Structure-hardness relations in sputtered Ti-Al-V-N films
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F03%3A00000191" target="_blank" >RIV/49777513:23520/03:00000191 - isvavai.cz</a>
Nalezeny alternativní kódy
RIV/49777513:23520/03:00000089 RIV/49777513:23520/03:00000090
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Structure-hardness relations in sputtered Ti-Al-V-N films
Popis výsledku v původním jazyce
The paper presents a detailed analysis of structure-hardness relations in hard and superhard nanostructured Ti(Al,V)Nx films with a low content of Al(5 at.%)and V(2 at.%). The Ti(Al,V)Nx films were prepared by d.c. reactive magnetron sputtering. Specialattention is devoted to the energy Epi delivered to the growing film by bombarding ions. It was found that Ti(Al,V)Nx films form a superhard material with hardness H>40 GPa; superhard Ti(Al,V)Nx films are: poly-oriented films characterized with at leas ttwo broad, low-intensity X-ray reflections, i.e. are composed of small grains of different crystallographic orientations.
Název v anglickém jazyce
Structure-hardness relations in sputtered Ti-Al-V-N films
Popis výsledku anglicky
The paper presents a detailed analysis of structure-hardness relations in hard and superhard nanostructured Ti(Al,V)Nx films with a low content of Al(5 at.%)and V(2 at.%). The Ti(Al,V)Nx films were prepared by d.c. reactive magnetron sputtering. Specialattention is devoted to the energy Epi delivered to the growing film by bombarding ions. It was found that Ti(Al,V)Nx films form a superhard material with hardness H>40 GPa; superhard Ti(Al,V)Nx films are: poly-oriented films characterized with at leas ttwo broad, low-intensity X-ray reflections, i.e. are composed of small grains of different crystallographic orientations.
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/ME%20529" target="_blank" >ME 529: Nanostrukturní tenké vrstvy</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2003
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Thin Solid Films
ISSN
00406090
e-ISSN
—
Svazek periodika
Vol. 444
Číslo periodika v rámci svazku
—
Stát vydavatele periodika
NL - Nizozemsko
Počet stran výsledku
10
Strana od-do
189-198
Kód UT WoS článku
—
EID výsledku v databázi Scopus
—