Nízkoteplotní naprašování krystalických vrstev TiO2

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F06%3A00000510" target="_blank" >RIV/49777513:23520/06:00000510 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Low-temperature sputtering of crystalline TiO2 films
Popis výsledku v původním jazyce
This article reports on the investigation of reactive magnetron sputtering of transparent, crystalline titanium dioxide films. The aim of this investigation is to determine a minimum substrate surface temperature necessary to form crystalline TiO2 filmswith annatase structure. Films were prepared by dc pulsed reactive magnetron sputtering using a dual magnetron operating in bipolar mode and equipped with Ti and ceramic Ti5O9 targets.
Název v anglickém jazyce
Low-temperature sputtering of crystalline TiO2 films
Popis výsledku anglicky
This article reports on the investigation of reactive magnetron sputtering of transparent, crystalline titanium dioxide films. The aim of this investigation is to determine a minimum substrate surface temperature necessary to form crystalline TiO2 filmswith annatase structure. Films were prepared by dc pulsed reactive magnetron sputtering using a dual magnetron operating in bipolar mode and equipped with Ti and ceramic Ti5O9 targets.

Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—

Rok uplatnění
2006
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Podobné výsledky(10)