Hard TiN2 dinitride films prepared by magnetron sputtering

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F18%3A43951667" target="_blank" >RIV/49777513:23520/18:43951667 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

<a href="https://doi.org/10.1116/1.5038555" target="_blank" >https://doi.org/10.1116/1.5038555</a>

DOI - Digital Object Identifier

<a href="http://dx.doi.org/10.1116/1.5038555" target="_blank" >10.1116/1.5038555</a>

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Hard TiN2 dinitride films prepared by magnetron sputtering

Popis výsledku v původním jazyce

This letter reports on the formation of hard TiN2 dinitride films prepared by magnetron sputtering. TiN2 films were reactively sputtered in an Ar + N2 gas mixture using a pulsed dual magnetron with a closed magnetic field B. The principle of the formation of TiN2 films by magnetron sputtering is briefly described. The stoichiometry x = N/Ti of the TiNx films was controlled by deposition parameters, and its maximum value of x = 2.3 was achieved. For the first time, a possibility to form the TiN2 dinitride films by magnetron sputtering has been demonstrated. The mechanical properties of sputtered films were investigated in detail.

Název v anglickém jazyce

Hard TiN2 dinitride films prepared by magnetron sputtering

Popis výsledku anglicky

This letter reports on the formation of hard TiN2 dinitride films prepared by magnetron sputtering. TiN2 films were reactively sputtered in an Ar + N2 gas mixture using a pulsed dual magnetron with a closed magnetic field B. The principle of the formation of TiN2 films by magnetron sputtering is briefly described. The stoichiometry x = N/Ti of the TiNx films was controlled by deposition parameters, and its maximum value of x = 2.3 was achieved. For the first time, a possibility to form the TiN2 dinitride films by magnetron sputtering has been demonstrated. The mechanical properties of sputtered films were investigated in detail.

Druh

J_imp - Článek v periodiku v databázi Web of Science

CEP obor

—

OECD FORD obor

20506 - Coating and films

Projekt

<a href="/cs/project/LO1506" target="_blank" >LO1506: Podpora udržitelnosti centra NTIS - Nové technologie pro informační společnost</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2018

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Journal of Vacuum Science and Technology A

ISSN

0734-2101

e-ISSN

—

Svazek periodika

36

Číslo periodika v rámci svazku

4

Stát vydavatele periodika

US - Spojené státy americké

Počet stran výsledku

3

Strana od-do

„040602-1“-„040602-3“

Kód UT WoS článku

000438217600009

EID výsledku v databázi Scopus

2-s2.0-85049236961