Povrchová morfologie TiO2 vrstev připravených magnetronovým naprašováním

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F07%3A00000104" target="_blank" >RIV/49777513:23520/07:00000104 - isvavai.cz</a>
Nalezeny alternativní kódy
RIV/44555601:13440/07:00003789
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Surface Morphology of Magnetron Sputtered TiO2 Films
Popis výsledku v původním jazyce
This article reports on investigation of the correlations between the process parameters, structure, and surface morphology of sputtered TiO2 films prepared by magnetron sputtering. It has been found that the increase in the partial pressure of oxygen results in the decrease of TiO2 film deposition rate and strong changes in its structure. Maximum surface roughness was observed for films sputtered in transition mode of sputtering with the structure rutile+anatase.
Název v anglickém jazyce
Surface Morphology of Magnetron Sputtered TiO2 Films
Popis výsledku anglicky
This article reports on investigation of the correlations between the process parameters, structure, and surface morphology of sputtered TiO2 films prepared by magnetron sputtering. It has been found that the increase in the partial pressure of oxygen results in the decrease of TiO2 film deposition rate and strong changes in its structure. Maximum surface roughness was observed for films sputtered in transition mode of sputtering with the structure rutile+anatase.

Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—

Rok uplatnění
2007
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Podobné výsledky(10)