Fotoaktivované vlastnosti vrstev TiO2 připravených magnetronovou depozicí

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F07%3A00000028" target="_blank" >RIV/49777513:23520/07:00000028 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Photoactivated Properties of TiO2 Films Prepared by Magnetron Sputtering

Popis výsledku v původním jazyce

This article reports on photoactivity of sputtered TiO2 films induced by UV irradiation. TiO2 films were prepared by dc pulsed reactive magnetron sputtering using a dual magnetron operated in bipolar mode and equipped with Ti targets. The photoactivity of TiO2 films, characterized by the water droplet contact angle on the film surface after UV irradiation, was evaluated and discussed in detail. The structure of TiO2 film was measured using X-ray diffraction and surface morphology using AFM. A sharp decrease in WDCA to 10° has been observed for optimal sputtering conditions. Possibility of low-temperature sputtering of photoactive TiO2 films on heat sensitive substrates has been introduced.

Název v anglickém jazyce

Photoactivated Properties of TiO2 Films Prepared by Magnetron Sputtering

Popis výsledku anglicky

This article reports on photoactivity of sputtered TiO2 films induced by UV irradiation. TiO2 films were prepared by dc pulsed reactive magnetron sputtering using a dual magnetron operated in bipolar mode and equipped with Ti targets. The photoactivity of TiO2 films, characterized by the water droplet contact angle on the film surface after UV irradiation, was evaluated and discussed in detail. The structure of TiO2 film was measured using X-ray diffraction and surface morphology using AFM. A sharp decrease in WDCA to 10° has been observed for optimal sputtering conditions. Possibility of low-temperature sputtering of photoactive TiO2 films on heat sensitive substrates has been introduced.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

—

Návaznosti

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2007

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Plasma Processes and Polymers

ISSN

1612-8850

e-ISSN

—

Svazek periodika

—

Číslo periodika v rámci svazku

—

Stát vydavatele periodika

DE - Spolková republika Německo

Počet stran výsledku

1

Strana od-do

—

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—