Ion Flux Characteristics in Pulsed Dual Magnetron Discharges Used for Deposition of Photoactive TiO2 Films
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F11%3A43898421" target="_blank" >RIV/49777513:23520/11:43898421 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="http://dx.doi.org/10.1002/ppap.201000131" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1002/ppap.201000131</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1002/ppap.201000131" target="_blank" >10.1002/ppap.201000131</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Ion Flux Characteristics in Pulsed Dual Magnetron Discharges Used for Deposition of Photoactive TiO2 Films
Popis výsledku v původním jazyce
Pulsed dc dual magnetron sputtering was used for preparation of photocatalytic crystalline TiO2 films. Both magnetrons operated in the asymmetric bipolar mode at the repetition frequency of 100 kHz. Time-averaged energy-resolved mass spectroscopy was performed at a substrate position located 100 mm from the targets. A suppression of high-energy ions in the flux onto the substrate resulted in a strong predominance of the highly photoactive crystalline anatase phase in the TiO2 films.
Název v anglickém jazyce
Ion Flux Characteristics in Pulsed Dual Magnetron Discharges Used for Deposition of Photoactive TiO2 Films
Popis výsledku anglicky
Pulsed dc dual magnetron sputtering was used for preparation of photocatalytic crystalline TiO2 films. Both magnetrons operated in the asymmetric bipolar mode at the repetition frequency of 100 kHz. Time-averaged energy-resolved mass spectroscopy was performed at a substrate position located 100 mm from the targets. A suppression of high-energy ions in the flux onto the substrate resulted in a strong predominance of the highly photoactive crystalline anatase phase in the TiO2 films.
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/OC10045" target="_blank" >OC10045: Nové plazmové zdroje pro depozici vrstev a modifikaci povrchů</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2011
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Plasma Processes and Polymers
ISSN
1612-8850
e-ISSN
—
Svazek periodika
8
Číslo periodika v rámci svazku
3
Stát vydavatele periodika
US - Spojené státy americké
Počet stran výsledku
9
Strana od-do
191-199
Kód UT WoS článku
000289024800002
EID výsledku v databázi Scopus
—