Nanostruktura fotokatalytických vrstev TiO2 deponovaných při teplotě pod 200°C

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F08%3A00500293" target="_blank" >RIV/49777513:23520/08:00500293 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Nanostructure of photocatalytic TiO2 films sputtered at temperatures below 200°C
Popis výsledku v původním jazyce
The article reports on correlations between the process parameters of reactive pulsed dc magnetron sputtering, physical properties and the photocatalytic activity of TiO2 films sputtered at substrate surface temperature. Films were deposited using a dualmagnetron system equipped with targets in Ar+O2 atmosphere in oxide mode of sputtering. The TiO2 films with highly photoactive anatase phase were prepared without a post-deposition thermal annealing.
Název v anglickém jazyce
Nanostructure of photocatalytic TiO2 films sputtered at temperatures below 200°C
Popis výsledku anglicky
The article reports on correlations between the process parameters of reactive pulsed dc magnetron sputtering, physical properties and the photocatalytic activity of TiO2 films sputtered at substrate surface temperature. Films were deposited using a dualmagnetron system equipped with targets in Ar+O2 atmosphere in oxide mode of sputtering. The TiO2 films with highly photoactive anatase phase were prepared without a post-deposition thermal annealing.

Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—

Projekt
<a href="/cs/project/GA106%2F06%2F0327" target="_blank" >GA106/06/0327: Krystalizace amorfních a nanokrystalických tenkých vrstev</a><br>
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění
2008
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Podobné výsledky(10)