Časově rozlišená diagnostika Langmuirovou sondou ve vysokovýkonových pulzních dc magnetonových výbojích během depozice měděných vrstev

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F07%3A00000151" target="_blank" >RIV/49777513:23520/07:00000151 - isvavai.cz</a>

Nalezeny alternativní kódy

RIV/49777513:23520/07:00000152

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Time-resolved Langmuir probe diagnostics of high-power pulsed dc magnetron discharges during deposition of copper films

Popis výsledku v původním jazyce

Electron energy distribution function and local plasma parameters were investigated at the substrate position (100mm from the target) by means of time-resolved Langmuir probe diagnostics during high-power pulsed dc magnetron sputtering of copper films. Very high plasma densities were achieved at the voltage pulse repetition frequency, the pulse duration, the argon pressure and the average pulse current. At the same conditions, the kinetic temperature of electrons rose with an increasing power during a pulse. After an initial stage it was in the range 10500-12500K. Negative peaks of the floating potential were registered at the very beginning of the voltage pulse

Název v anglickém jazyce

Time-resolved Langmuir probe diagnostics of high-power pulsed dc magnetron discharges during deposition of copper films

Popis výsledku anglicky

Electron energy distribution function and local plasma parameters were investigated at the substrate position (100mm from the target) by means of time-resolved Langmuir probe diagnostics during high-power pulsed dc magnetron sputtering of copper films. Very high plasma densities were achieved at the voltage pulse repetition frequency, the pulse duration, the argon pressure and the average pulse current. At the same conditions, the kinetic temperature of electrons rose with an increasing power during a pulse. After an initial stage it was in the range 10500-12500K. Negative peaks of the floating potential were registered at the very beginning of the voltage pulse

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/ME%20673" target="_blank" >ME 673: Nové zdroje plazmatu pro vytváření tenkých vrstev</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2007

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

XXVIII International conference on phenomena in ionized gases

ISBN

978-80-87026-01-4

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

3

Strana od-do

1960-1962

Název nakladatele

Institute of Plasma Physics AS CR

Místo vydání

Praha

Místo konání akce

Praha

Datum konání akce

1. 1. 2007

Typ akce podle státní příslušnosti

WRD - Celosvětová akce

Kód UT WoS článku

—