Vrstvy Ti-Si-N s vysokým obsahem Si
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F07%3A00000289" target="_blank" >RIV/49777513:23520/07:00000289 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Ti-Si-N Films with a High Content of Si
Popis výsledku v původním jazyce
The article reports on mechanical properties and oxidation of amorphous Ti-Si-N films with a high content of Si reactively sputtered using a closed magnetic field dual magnetron sputtering system operating in AC pulse mode. The films were sputtered fromcompound targets on Si, 15330 steel and Al2O3 substrates. It was found that the Ti-Si-N films with a high content of N are X-ray amorphous and exhibit relatively high hardness H ranging from 20 to 27 GPa and high oxidation temperature achieving 1480°C for the Ti-Si-N film on the Al2O3 substrate, and Young's modulus of the films is strongly affected by mechanical properties of the substrate.
Název v anglickém jazyce
Ti-Si-N Films with a High Content of Si
Popis výsledku anglicky
The article reports on mechanical properties and oxidation of amorphous Ti-Si-N films with a high content of Si reactively sputtered using a closed magnetic field dual magnetron sputtering system operating in AC pulse mode. The films were sputtered fromcompound targets on Si, 15330 steel and Al2O3 substrates. It was found that the Ti-Si-N films with a high content of N are X-ray amorphous and exhibit relatively high hardness H ranging from 20 to 27 GPa and high oxidation temperature achieving 1480°C for the Ti-Si-N film on the Al2O3 substrate, and Young's modulus of the films is strongly affected by mechanical properties of the substrate.
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
—
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2007
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Plasma Processes and Polymers
ISSN
1612-8850
e-ISSN
—
Svazek periodika
—
Číslo periodika v rámci svazku
—
Stát vydavatele periodika
DE - Spolková republika Německo
Počet stran výsledku
1
Strana od-do
—
Kód UT WoS článku
—
EID výsledku v databázi Scopus
—