Properties of nanocrystalline Al-Cu-O films reactively sputtered by DC pulse dual magnetron

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F11%3A43898490" target="_blank" >RIV/49777513:23520/11:43898490 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

<a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2011.10.039" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2011.10.039</a>

DOI - Digital Object Identifier

<a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2011.10.039" target="_blank" >10.1016/j.apsusc.2011.10.039</a>

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Properties of nanocrystalline Al-Cu-O films reactively sputtered by DC pulse dual magnetron

Popis výsledku v původním jazyce

The article reports on the effect of the addition of Cu in the Al2O3 film on its mechanical and optical properties. The Al-Cu-O films were reactively co-sputtered using DC pulse dual magnetron in a mixture of argon and oxygen. The amount of Al and Cu inthe Al-Cu-O film was controlled by the length of pulse at the Al/Cu target. It is shown that the structure of Al-Cu-O film gradually varies with increasing Cu content from Al2O3 through Al-Cu-O nanocrystalline solid solution to CuAl2O4 spinel structure.The Al-Cu-O films exhibit (i) relatively high hardness (ii) enhanced elastic recovery (iii) low values of Young's modulus and (iv) enhanced resistance to cracking during indentation under high load.

Název v anglickém jazyce

Properties of nanocrystalline Al-Cu-O films reactively sputtered by DC pulse dual magnetron

Popis výsledku anglicky

The article reports on the effect of the addition of Cu in the Al2O3 film on its mechanical and optical properties. The Al-Cu-O films were reactively co-sputtered using DC pulse dual magnetron in a mixture of argon and oxygen. The amount of Al and Cu inthe Al-Cu-O film was controlled by the length of pulse at the Al/Cu target. It is shown that the structure of Al-Cu-O film gradually varies with increasing Cu content from Al2O3 through Al-Cu-O nanocrystalline solid solution to CuAl2O4 spinel structure.The Al-Cu-O films exhibit (i) relatively high hardness (ii) enhanced elastic recovery (iii) low values of Young's modulus and (iv) enhanced resistance to cracking during indentation under high load.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/OC10045" target="_blank" >OC10045: Nové plazmové zdroje pro depozici vrstev a modifikaci povrchů</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2011

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

APPLIED SURFACE SCIENCE

ISSN

0169-4332

e-ISSN

—

Svazek periodika

2011

Číslo periodika v rámci svazku

258

Stát vydavatele periodika

NL - Nizozemsko

Počet stran výsledku

6

Strana od-do

1762-1767

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—