Transparent Zr-Al-O oxide coatings with enhanced resistance to cracking

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F12%3A43896763" target="_blank" >RIV/49777513:23520/12:43896763 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

<a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2011.09.035" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2011.09.035</a>

DOI - Digital Object Identifier

<a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2011.09.035" target="_blank" >10.1016/j.surfcoat.2011.09.035</a>

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Transparent Zr-Al-O oxide coatings with enhanced resistance to cracking

Popis výsledku v původním jazyce

The article reports on structure, transparency and mechanical properties of Zr-Al-O oxide thin films with higher content of Zr then Al produced by reactive DC pulse dual magnetron sputtering. Special attention is devoted to the formation of transparent Zr-Al-O oxide films in the transition mode of sputtering and their unique properties. It is shown that (i) the transparent Zr-Al-O films can be deposited in the transition mode of sputtering with a high deposition rate at relatively low value of the magnetron target power density, (ii) the Zr-Al-O films sputtered in the transition and oxides mode of sputtering exhibit relatively high hardness, low effective Young's modulus, high elastic recovery and an enhanced resistance to cracking.

Název v anglickém jazyce

Transparent Zr-Al-O oxide coatings with enhanced resistance to cracking

Popis výsledku anglicky

The article reports on structure, transparency and mechanical properties of Zr-Al-O oxide thin films with higher content of Zr then Al produced by reactive DC pulse dual magnetron sputtering. Special attention is devoted to the formation of transparent Zr-Al-O oxide films in the transition mode of sputtering and their unique properties. It is shown that (i) the transparent Zr-Al-O films can be deposited in the transition mode of sputtering with a high deposition rate at relatively low value of the magnetron target power density, (ii) the Zr-Al-O films sputtered in the transition and oxides mode of sputtering exhibit relatively high hardness, low effective Young's modulus, high elastic recovery and an enhanced resistance to cracking.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/OC10045" target="_blank" >OC10045: Nové plazmové zdroje pro depozici vrstev a modifikaci povrchů</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2012

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Surface and Coatings Technology

ISSN

0257-8972

e-ISSN

—

Svazek periodika

206

Číslo periodika v rámci svazku

8-9

Stát vydavatele periodika

NL - Nizozemsko

Počet stran výsledku

5

Strana od-do

2105-2109

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—