Durable AlN and Al2O3 Optical Films Deposited by Low Duty Cycle Pulsed Magnetron Sputtering

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23420%2F16%3A43931654" target="_blank" >RIV/49777513:23420/16:43931654 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="https://doi.org/10.1364/OIC.2016.WA.6" target="_blank" >https://doi.org/10.1364/OIC.2016.WA.6</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1364/OIC.2016.WA.6" target="_blank" >10.1364/OIC.2016.WA.6</a>

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Durable AlN and Al2O3 Optical Films Deposited by Low Duty Cycle Pulsed Magnetron Sputtering
Popis výsledku v původním jazyce
We applied low-duty cycle pulsed magnetron reactive sputtering of an Al target to achieve stable deposition of transparent Al2O3 films and AlN films with high density, high hardness, and low stress at deposition rates of ~60 nm/min.
Název v anglickém jazyce
Durable AlN and Al2O3 Optical Films Deposited by Low Duty Cycle Pulsed Magnetron Sputtering
Popis výsledku anglicky
We applied low-duty cycle pulsed magnetron reactive sputtering of an Al target to achieve stable deposition of transparent Al2O3 films and AlN films with high density, high hardness, and low stress at deposition rates of ~60 nm/min.

Projekt
—
Návaznosti
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Rok uplatnění
2016
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku
Optics InfoBase Conference Papers, Volume Part F31-OIC 2016
ISBN
978-1-943580-13-2
ISSN
—
e-ISSN
neuvedeno
Počet stran výsledku
3
Strana od-do
"„WA.6.1“"-"„WA.6.3“"
Název nakladatele
OSA - The Optical Society
Místo vydání
Washington, DC
Místo konání akce
Tuscon, Arizona, USA
Datum konání akce
19. 6. 2016
Typ akce podle státní příslušnosti
WRD - Celosvětová akce
Kód UT WoS článku
—

Podobné výsledky(10)