Contamination of magnetron sputtered metallic films by oxygen from residual atmosphere in deposition chamber

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F15%3A00449004" target="_blank" >RIV/68378271:_____/15:00449004 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

<a href="http://dx.doi.org/10.1002/ppap.201400172" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1002/ppap.201400172</a>

DOI - Digital Object Identifier

<a href="http://dx.doi.org/10.1002/ppap.201400172" target="_blank" >10.1002/ppap.201400172</a>

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Contamination of magnetron sputtered metallic films by oxygen from residual atmosphere in deposition chamber

Popis výsledku v původním jazyce

The article reports on the contamination of Ag thin films sputtered from a pure Ag target in Ar and Ne gas by the RF magnetron by gas atoms contained in residual gas atmosphere in the deposition chamber at different values of the base pressure. The amount of O atoms generated at different values of base pressure is compared with the amount of Ag atoms sputtered at different deposition rates of Ag film. This comparison reveals a great problem in the formation of pure metallic films at low deposition rates and high values of the base pressure. No pure Ag films can be deposited at low in deposition chambers evacuated with diffusion or root pumps to the base pressures lower than 1mPa only.

Název v anglickém jazyce

Contamination of magnetron sputtered metallic films by oxygen from residual atmosphere in deposition chamber

Popis výsledku anglicky

The article reports on the contamination of Ag thin films sputtered from a pure Ag target in Ar and Ne gas by the RF magnetron by gas atoms contained in residual gas atmosphere in the deposition chamber at different values of the base pressure. The amount of O atoms generated at different values of base pressure is compared with the amount of Ag atoms sputtered at different deposition rates of Ag film. This comparison reveals a great problem in the formation of pure metallic films at low deposition rates and high values of the base pressure. No pure Ag films can be deposited at low in deposition chambers evacuated with diffusion or root pumps to the base pressures lower than 1mPa only.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Rok uplatnění

2015

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Plasma Processes and Polymers

ISSN

1612-8850

e-ISSN

—

Svazek periodika

12

Číslo periodika v rámci svazku

5

Stát vydavatele periodika

DE - Spolková republika Německo

Počet stran výsledku

6

Strana od-do

416-421

Kód UT WoS článku

000354622600002

EID výsledku v databázi Scopus

2-s2.0-84929512249