Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Optimisation of deposition parameters of Ionised Jet Deposition (IJD) created Titanium nitride thin films

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68407700%3A21340%2F24%3A00378630" target="_blank" >RIV/68407700:21340/24:00378630 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Optimisation of deposition parameters of Ionised Jet Deposition (IJD) created Titanium nitride thin films

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Titanium nitride is often used as a protective coating due to its hardness. This material is mostly deposited by pulsed laser deposition or magnetron sputtering. Ionized jet deposition has a potential to improve and diversify ways of making titanium nitride thin films. We optimised the nitrogen pressure in the IJD chamber to suppress concentration of titanium oxide in films. We manufactured a set of films using different deposition pressures. Based on the XRD data, higher gas pressure is preferable. In contrast, lower gas pressure contributes to higher film growth, based on AFM data.

  • Název v anglickém jazyce

    Optimisation of deposition parameters of Ionised Jet Deposition (IJD) created Titanium nitride thin films

  • Popis výsledku anglicky

    Titanium nitride is often used as a protective coating due to its hardness. This material is mostly deposited by pulsed laser deposition or magnetron sputtering. Ionized jet deposition has a potential to improve and diversify ways of making titanium nitride thin films. We optimised the nitrogen pressure in the IJD chamber to suppress concentration of titanium oxide in films. We manufactured a set of films using different deposition pressures. Based on the XRD data, higher gas pressure is preferable. In contrast, lower gas pressure contributes to higher film growth, based on AFM data.

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    10302 - Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    S - Specificky vyzkum na vysokych skolach

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2024

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    Sborník příspěvků 13. studentské vědecké konference fyziky pevných látek, fotoniky a materiálů

  • ISBN

    978-80-01-07382-7

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    8

  • Strana od-do

    39-46

  • Název nakladatele

    ČVUT, Fakulta jaderná a fyzikálně inženýrská, Katedra inženýrství pevných látek

  • Místo vydání

    Praha

  • Místo konání akce

    Byňov-Nové Hrady

  • Datum konání akce

    3. 9. 2024

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    CST - Celostátní akce

  • Kód UT WoS článku