Superior high-temperature oxidation resistance of magnetron sputtered Hf-B-Si-C-N film

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F16%3A43927691" target="_blank" >RIV/49777513:23520/16:43927691 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

<a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.ceramint.2015.11.171" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1016/j.ceramint.2015.11.171</a>

DOI - Digital Object Identifier

<a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.ceramint.2015.11.171" target="_blank" >10.1016/j.ceramint.2015.11.171</a>

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Superior high-temperature oxidation resistance of magnetron sputtered Hf-B-Si-C-N film

Popis výsledku v původním jazyce

A hard and optically transparent amorphous Hf7B23Si17C4N45 film with a contamination level less than 4 at%, prepared by reactive pulsed dc magnetron sputtering, was subjected to systematic investigation of high-temperature oxidation behavior in air up to 1700 oC. We focus on thermogravimetric analysis of the film in air and on the evolution of the film structure, microstructure and elemental composition with an annealing temperature ranging from 1100 oC to 1700 oC. The film exhibits a superior oxidation resistance up to 1600 oC due to a formation of a nanocomposite protective oxide layer on the surface above 1000 oC. The layer consists of monoclinic and tetragonal (or orthorhombic) HfO2 nanocrystallites surrounded by a SiO2-based amorphous matrix, most probably containing boron.

Název v anglickém jazyce

Superior high-temperature oxidation resistance of magnetron sputtered Hf-B-Si-C-N film

Popis výsledku anglicky

A hard and optically transparent amorphous Hf7B23Si17C4N45 film with a contamination level less than 4 at%, prepared by reactive pulsed dc magnetron sputtering, was subjected to systematic investigation of high-temperature oxidation behavior in air up to 1700 oC. We focus on thermogravimetric analysis of the film in air and on the evolution of the film structure, microstructure and elemental composition with an annealing temperature ranging from 1100 oC to 1700 oC. The film exhibits a superior oxidation resistance up to 1600 oC due to a formation of a nanocomposite protective oxide layer on the surface above 1000 oC. The layer consists of monoclinic and tetragonal (or orthorhombic) HfO2 nanocrystallites surrounded by a SiO2-based amorphous matrix, most probably containing boron.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

JH - Keramika, žáruvzdorné materiály a skla

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/GA14-03875S" target="_blank" >GA14-03875S: Nanostrukturní multifunkční povlaky připravené užitím silně ionizovaného pulzního plazmatu</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2016

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

CERAMICS INTERNATIONAL

ISSN

0272-8842

e-ISSN

—

Svazek periodika

42

Číslo periodika v rámci svazku

4

Stát vydavatele periodika

GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska

Počet stran výsledku

7

Strana od-do

4853-4859

Kód UT WoS článku

000369460500028

EID výsledku v databázi Scopus

—