Effect of energy on the formation of flexible hard Al-Si-N films prepared by magnetron sputtering
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F16%3A43929163" target="_blank" >RIV/49777513:23520/16:43929163 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.vacuum.2016.08.014" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1016/j.vacuum.2016.08.014</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.vacuum.2016.08.014" target="_blank" >10.1016/j.vacuum.2016.08.014</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Effect of energy on the formation of flexible hard Al-Si-N films prepared by magnetron sputtering
Popis výsledku v původním jazyce
The article reports on mechanical and optical properties of Al-Si-N films with a low Si content (< 5 at.%) deposited by ac pulsed reactive magnetron sputtering. The effect of the energy Ebi delivered in the growing film by bombarding ions on the properties of Al-Si-N films was investigated in detail. It was found that the Al-Si-N films are crystalline, highly elastic and optically transparent, and exhibit (i) the columnar microstructure and low resistance to cracking when sputtered at low energy Ebi, (ii) the dense, voids-free microstructure and the enhanced resistance to cracking when sputtered at high energy Ebi.
Název v anglickém jazyce
Effect of energy on the formation of flexible hard Al-Si-N films prepared by magnetron sputtering
Popis výsledku anglicky
The article reports on mechanical and optical properties of Al-Si-N films with a low Si content (< 5 at.%) deposited by ac pulsed reactive magnetron sputtering. The effect of the energy Ebi delivered in the growing film by bombarding ions on the properties of Al-Si-N films was investigated in detail. It was found that the Al-Si-N films are crystalline, highly elastic and optically transparent, and exhibit (i) the columnar microstructure and low resistance to cracking when sputtered at low energy Ebi, (ii) the dense, voids-free microstructure and the enhanced resistance to cracking when sputtered at high energy Ebi.
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/LO1506" target="_blank" >LO1506: Podpora udržitelnosti centra NTIS - Nové technologie pro informační společnost</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
2016
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Vacuum
ISSN
0042-207X
e-ISSN
—
Svazek periodika
133
Číslo periodika v rámci svazku
1 November 2016
Stát vydavatele periodika
GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska
Počet stran výsledku
3
Strana od-do
43-45
Kód UT WoS článku
000385327000008
EID výsledku v databázi Scopus
2-s2.0-84983762662