Amorphous Zr-Cu thin-film alloys with metallic glass behavior
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F17%3A43931450" target="_blank" >RIV/49777513:23520/17:43931450 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.jallcom.2016.12.098" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1016/j.jallcom.2016.12.098</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.jallcom.2016.12.098" target="_blank" >10.1016/j.jallcom.2016.12.098</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Amorphous Zr-Cu thin-film alloys with metallic glass behavior
Popis výsledku v původním jazyce
Binary Zr–Cu thin-film alloys were prepared by non-reactive conventional dc and impulse magnetron co-sputtering using two unbalanced magnetrons equipped with Zr and Cu targets. The magnetron with the Zr target was operated in a dc regime while the magnetron with the Cu target in a pulse regime either at low or high density discharge conditions. The evolution of the structure, thermal behavior, mechanical, electrical and surface properties of Zr–Cu films with increasing Cu content was systematically investigated. We found that Zr–Cu thin-film metallic glasses were prepared with the Cu content between approximately 30 and 65 at.% Cu. The deposition at the high density discharge conditions resulted in a preparation of the Zr–Cu thin-film metallic alloys with a compressive stress (<0 GPa), an enhanced hardness (>7 GPa), very smooth (surface roughness <1 nm) and hydrophobic (water contact angle >100°) surface.
Název v anglickém jazyce
Amorphous Zr-Cu thin-film alloys with metallic glass behavior
Popis výsledku anglicky
Binary Zr–Cu thin-film alloys were prepared by non-reactive conventional dc and impulse magnetron co-sputtering using two unbalanced magnetrons equipped with Zr and Cu targets. The magnetron with the Zr target was operated in a dc regime while the magnetron with the Cu target in a pulse regime either at low or high density discharge conditions. The evolution of the structure, thermal behavior, mechanical, electrical and surface properties of Zr–Cu films with increasing Cu content was systematically investigated. We found that Zr–Cu thin-film metallic glasses were prepared with the Cu content between approximately 30 and 65 at.% Cu. The deposition at the high density discharge conditions resulted in a preparation of the Zr–Cu thin-film metallic alloys with a compressive stress (<0 GPa), an enhanced hardness (>7 GPa), very smooth (surface roughness <1 nm) and hydrophobic (water contact angle >100°) surface.
Klasifikace
Druh
J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science
CEP obor
—
OECD FORD obor
20506 - Coating and films
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/GA16-18183S" target="_blank" >GA16-18183S: Pokročilé povrchové povlaky se zlepšenými vlastnostmi a teplotní stabilitou</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
2017
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
JOURNAL OF ALLOYS AND COMPOUNDS
ISSN
0925-8388
e-ISSN
—
Svazek periodika
696
Číslo periodika v rámci svazku
5 March 2017
Stát vydavatele periodika
CH - Švýcarská konfederace
Počet stran výsledku
9
Strana od-do
1298-1306
Kód UT WoS článku
000391819800168
EID výsledku v databázi Scopus
2-s2.0-85006758424