Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Preparation of tungsten oxide thin films using reactive HiPIMS: Process and material

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F21%3A43962633" target="_blank" >RIV/49777513:23520/21:43962633 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Preparation of tungsten oxide thin films using reactive HiPIMS: Process and material

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Nowadays, tungsten oxide is widely studied as a promising material for hydrogen gas sensing, electrochromic or photocatalytic applications. However, there are only few works focused on utilization of reactive HiPIMS (high-power impulse magnetron sputtering) process for WOx films preparation. Despite the fact, reactive HiPIMS could enhance deposition rate or allow to prepare quality oxide films at low temperature. In this work, we present results obtained during reactive HiPIMS deposition of thin WOx film with different stoichiometry and structure. Effect of oxygen partial pressure, value of pulse-averaged target power density and pulse length will be discussed. Results obtained from an improved version of our global model of reactive HiPIMS will be also presented. Hydrogen sensing response will be shown for selected films. It is demonstrated, sensitivity towards hydrogen gas is highly increased for a proper nanostructure.

  • Název v anglickém jazyce

    Preparation of tungsten oxide thin films using reactive HiPIMS: Process and material

  • Popis výsledku anglicky

    Nowadays, tungsten oxide is widely studied as a promising material for hydrogen gas sensing, electrochromic or photocatalytic applications. However, there are only few works focused on utilization of reactive HiPIMS (high-power impulse magnetron sputtering) process for WOx films preparation. Despite the fact, reactive HiPIMS could enhance deposition rate or allow to prepare quality oxide films at low temperature. In this work, we present results obtained during reactive HiPIMS deposition of thin WOx film with different stoichiometry and structure. Effect of oxygen partial pressure, value of pulse-averaged target power density and pulse length will be discussed. Results obtained from an improved version of our global model of reactive HiPIMS will be also presented. Hydrogen sensing response will be shown for selected films. It is demonstrated, sensitivity towards hydrogen gas is highly increased for a proper nanostructure.

Klasifikace

  • Druh

    O - Ostatní výsledky

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    20506 - Coating and films

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    S - Specificky vyzkum na vysokych skolach

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2021

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů