Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Ion and atom fluxes during HiPIMS deposition of NbC from a compound target

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F23%3A43969229" target="_blank" >RIV/49777513:23520/23:43969229 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Ion and atom fluxes during HiPIMS deposition of NbC from a compound target

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Sputtered element ratio (Nb/C) in films deposited from a compound NbC target by non-reactive high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) operated at different frequencies and duty cycles have been investigated. Time-averaged mass spectrometry shows that the fluxes of sputtered target ions increase with increasing pulse power density (and decreasing pulse length) due to increasing the electron density and, hence, electron-impact ionization probability. Since Nb atoms have lower ionization energy and larger ionization cross-section than C atoms, the Nb ions dominate the flux of ions onto the film at all conditions. Neutrals were monitored by optical emission spectroscopy (OES) and showed a decrease by increasing pulse power density. In the case of 500 Hz, the Nb/C ratio varied from 0.6 to 0.95 by adjusting the length of HiPIMS pulses between 200 μs and 30 μs, achieving nearly stoichiometric composition for the lowest pulse length.

  • Název v anglickém jazyce

    Ion and atom fluxes during HiPIMS deposition of NbC from a compound target

  • Popis výsledku anglicky

    Sputtered element ratio (Nb/C) in films deposited from a compound NbC target by non-reactive high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) operated at different frequencies and duty cycles have been investigated. Time-averaged mass spectrometry shows that the fluxes of sputtered target ions increase with increasing pulse power density (and decreasing pulse length) due to increasing the electron density and, hence, electron-impact ionization probability. Since Nb atoms have lower ionization energy and larger ionization cross-section than C atoms, the Nb ions dominate the flux of ions onto the film at all conditions. Neutrals were monitored by optical emission spectroscopy (OES) and showed a decrease by increasing pulse power density. In the case of 500 Hz, the Nb/C ratio varied from 0.6 to 0.95 by adjusting the length of HiPIMS pulses between 200 μs and 30 μs, achieving nearly stoichiometric composition for the lowest pulse length.

Klasifikace

  • Druh

    O - Ostatní výsledky

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    20506 - Coating and films

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    S - Specificky vyzkum na vysokych skolach

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2023

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů