Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Improvement of electrical and optical properties of Cu2O based p-type transparent conductive oxides

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F24%3A43972651" target="_blank" >RIV/49777513:23520/24:43972651 - isvavai.cz</a>

  • Nalezeny alternativní kódy

    RIV/49777513:23640/24:43972651

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Improvement of electrical and optical properties of Cu2O based p-type transparent conductive oxides

  • Popis výsledku v původním jazyce

    In this work, we have utilized different approaches to improve the optical and electrical properties of Cu2O-based films. We investigated nitrogen incorporation into Cu2O during its growth by high-power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) at different pulse-averaged target power densities. Additionally, we utilized a high-power infrared laser to post-treat Cu2O thin films prepared by high-rate reactive HiPIMS. We found that reactive HiPIMS is a promising method for forming nitrogen-doped Cu2O films with tunable nitrogen concentration. In the case of laser post-treatment, we found that this method could be a promising way to increase hole mobility in Cu2O-based materials without the requirements for high temperature and/or special working atmosphere.

  • Název v anglickém jazyce

    Improvement of electrical and optical properties of Cu2O based p-type transparent conductive oxides

  • Popis výsledku anglicky

    In this work, we have utilized different approaches to improve the optical and electrical properties of Cu2O-based films. We investigated nitrogen incorporation into Cu2O during its growth by high-power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) at different pulse-averaged target power densities. Additionally, we utilized a high-power infrared laser to post-treat Cu2O thin films prepared by high-rate reactive HiPIMS. We found that reactive HiPIMS is a promising method for forming nitrogen-doped Cu2O films with tunable nitrogen concentration. In the case of laser post-treatment, we found that this method could be a promising way to increase hole mobility in Cu2O-based materials without the requirements for high temperature and/or special working atmosphere.

Klasifikace

  • Druh

    O - Ostatní výsledky

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    20506 - Coating and films

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/EH22_008%2F0004572" target="_blank" >EH22_008/0004572: Kvantové materiály pro aplikace v udržitelných technologiích</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>S - Specificky vyzkum na vysokych skolach<br>I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2024

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů