Rectangular magnetron with full target erosion
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F99%3A00039171" target="_blank" >RIV/49777513:23520/99:00039171 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Rectangular magnetron with full target erosion
Popis výsledku v původním jazyce
The article reports on the operation of a rectangular magnetron with three and four closed discharges simultaneously formed on the surface of sputtered target. The closed discharges, elliptically shaped with the longer axis perpendicular to the long sideof the rectangular magnetron, are formed using magnetic circuits placed behind the sputtered target. By moving these magnetic circuits along the long axis of a rectangular target, it is possible to achieve almost full target erosion and therefore significantly increase the usage lifetime on the target. This principle can be used for rectangular magnetrons with arbitrary length of the target. The longer the target, the greater the number of closed discharges that are required. Experimentally, it was found that neighboring closed discharges can interact which may significantly modify the sputtering characteristics of the magnetron cathode. This interaction is described and the physical requirements to avoid its occurrence are given.
Název v anglickém jazyce
Rectangular magnetron with full target erosion
Popis výsledku anglicky
The article reports on the operation of a rectangular magnetron with three and four closed discharges simultaneously formed on the surface of sputtered target. The closed discharges, elliptically shaped with the longer axis perpendicular to the long sideof the rectangular magnetron, are formed using magnetic circuits placed behind the sputtered target. By moving these magnetic circuits along the long axis of a rectangular target, it is possible to achieve almost full target erosion and therefore significantly increase the usage lifetime on the target. This principle can be used for rectangular magnetrons with arbitrary length of the target. The longer the target, the greater the number of closed discharges that are required. Experimentally, it was found that neighboring closed discharges can interact which may significantly modify the sputtering characteristics of the magnetron cathode. This interaction is described and the physical requirements to avoid its occurrence are given.
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/GV106%2F96%2FK245" target="_blank" >GV106/96/K245: Tvrdé a supertvrdé povlaky vytvořené nekonvenčními plazmovými procesy</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
1999
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Journal of Vacuum Science and Technology
ISSN
07342101
e-ISSN
—
Svazek periodika
Vol.^A17
Číslo periodika v rámci svazku
č.^2
Stát vydavatele periodika
US - Spojené státy americké
Počet stran výsledku
9
Strana od-do
—
Kód UT WoS článku
—
EID výsledku v databázi Scopus
—