Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Rectangular magnetron with full target erosion

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F99%3A00039171" target="_blank" >RIV/49777513:23520/99:00039171 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Rectangular magnetron with full target erosion

  • Popis výsledku v původním jazyce

    The article reports on the operation of a rectangular magnetron with three and four closed discharges simultaneously formed on the surface of sputtered target. The closed discharges, elliptically shaped with the longer axis perpendicular to the long sideof the rectangular magnetron, are formed using magnetic circuits placed behind the sputtered target. By moving these magnetic circuits along the long axis of a rectangular target, it is possible to achieve almost full target erosion and therefore significantly increase the usage lifetime on the target. This principle can be used for rectangular magnetrons with arbitrary length of the target. The longer the target, the greater the number of closed discharges that are required. Experimentally, it was found that neighboring closed discharges can interact which may significantly modify the sputtering characteristics of the magnetron cathode. This interaction is described and the physical requirements to avoid its occurrence are given.

  • Název v anglickém jazyce

    Rectangular magnetron with full target erosion

  • Popis výsledku anglicky

    The article reports on the operation of a rectangular magnetron with three and four closed discharges simultaneously formed on the surface of sputtered target. The closed discharges, elliptically shaped with the longer axis perpendicular to the long sideof the rectangular magnetron, are formed using magnetic circuits placed behind the sputtered target. By moving these magnetic circuits along the long axis of a rectangular target, it is possible to achieve almost full target erosion and therefore significantly increase the usage lifetime on the target. This principle can be used for rectangular magnetrons with arbitrary length of the target. The longer the target, the greater the number of closed discharges that are required. Experimentally, it was found that neighboring closed discharges can interact which may significantly modify the sputtering characteristics of the magnetron cathode. This interaction is described and the physical requirements to avoid its occurrence are given.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/GV106%2F96%2FK245" target="_blank" >GV106/96/K245: Tvrdé a supertvrdé povlaky vytvořené nekonvenčními plazmovými procesy</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    1999

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Journal of Vacuum Science and Technology

  • ISSN

    07342101

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    Vol.^A17

  • Číslo periodika v rámci svazku

    č.^2

  • Stát vydavatele periodika

    US - Spojené státy americké

  • Počet stran výsledku

    9

  • Strana od-do

  • Kód UT WoS článku

  • EID výsledku v databázi Scopus