Transport and ionization of sputtered atoms in high-power impulse magnetron sputtering discharges

Kód výsledku v IS VaVaI

RIV/49777513:23520/13:43917963 - isvavai.cz

Výsledek na webu

http://iopscience.iop.org/0022-3727/46/10/105203

DOI - Digital Object Identifier

10.1088/0022-3727/46/10/105203

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Transport and ionization of sputtered atoms in high-power impulse magnetron sputtering discharges

Popis výsledku v původním jazyce

We use a non-stationary two-zone model to verify predictions of a steady-state phenomenological model (Vlček and Burcalová) under the conditions in typical high-power impulse magnetron sputtering discharges. It is shown that the steady-state phenomenological model provides a reliable description of fundamental deposition parameters characterizing efficiency of magnetron sputtering and the transfer of target material ions to the substrate in these discharges with relatively long steady-state discharge regimes established during pulses. Based on the results, we recommend to lower the magnetic field strength in a magnetron system at a fixed average target power density in a pulse and thereby use a higher magnetron voltage in order to enhance the deposition rate and keep or even increase the ionized fraction of sputtered target material atoms in the flux onto the substrate.

Název v anglickém jazyce

Transport and ionization of sputtered atoms in high-power impulse magnetron sputtering discharges

Popis výsledku anglicky

We use a non-stationary two-zone model to verify predictions of a steady-state phenomenological model (Vlček and Burcalová) under the conditions in typical high-power impulse magnetron sputtering discharges. It is shown that the steady-state phenomenological model provides a reliable description of fundamental deposition parameters characterizing efficiency of magnetron sputtering and the transfer of target material ions to the substrate in these discharges with relatively long steady-state discharge regimes established during pulses. Based on the results, we recommend to lower the magnetic field strength in a magnetron system at a fixed average target power density in a pulse and thereby use a higher magnetron voltage in order to enhance the deposition rate and keep or even increase the ionized fraction of sputtered target material atoms in the flux onto the substrate.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

GAP108/12/0393: Tvrdé nanokompozitní vrstvy se zvýšenou houževnatostí a unikátními vlastnostmi

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2013

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Journal of Physics D: Applied Physics

ISSN

0022-3727

e-ISSN

—

Svazek periodika

46

Číslo periodika v rámci svazku

10

Stát vydavatele periodika

GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska

Počet stran výsledku

7

Strana od-do

1-7

Kód UT WoS článku

000315169500013

EID výsledku v databázi Scopus

—