Vysokovýkonové pulzní magnetronové naprašování : Model a experimenty

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F07%3A00000200" target="_blank" >RIV/49777513:23520/07:00000200 - isvavai.cz</a>

Nalezeny alternativní kódy

RIV/49777513:23520/07:00000201

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

High-power pulsed magnetron sputtering: Model and experiments

Popis výsledku v původním jazyce

The original model developed by Christie (2005) for high-power pulsed magnetron sputtering was modified. A weak additional ionization of sputtered atoms in a plasma bulk was included and description of the losses of target material neutrals and ions wassimplified. The calculations were carried out for two technologically interesting materials (copper and titanium) with very different characteristics. A completely different trend in the calculated values of the deposition rate per unit discharge power input and the same trend in the values of the ionized fraction of sputtered atoms in the flux onto the substrate were confirmed by our measurements. The depositions were performed using a newly designed, strongly unbalanced magnetron system with a targetof 100mm in diameter.

Název v anglickém jazyce

High-power pulsed magnetron sputtering: Model and experiments

Popis výsledku anglicky

The original model developed by Christie (2005) for high-power pulsed magnetron sputtering was modified. A weak additional ionization of sputtered atoms in a plasma bulk was included and description of the losses of target material neutrals and ions wassimplified. The calculations were carried out for two technologically interesting materials (copper and titanium) with very different characteristics. A completely different trend in the calculated values of the deposition rate per unit discharge power input and the same trend in the values of the ionized fraction of sputtered atoms in the flux onto the substrate were confirmed by our measurements. The depositions were performed using a newly designed, strongly unbalanced magnetron system with a targetof 100mm in diameter.

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/ME%20673" target="_blank" >ME 673: Nové zdroje plazmatu pro vytváření tenkých vrstev</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2007

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

XXVIII International conference on phenomena in ionized gases

ISBN

978-80-87026-01-4

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

4

Strana od-do

625-628

Název nakladatele

Institute of Plasma Physics AS CR

Místo vydání

Prague

Místo konání akce

Praha

Datum konání akce

1. 1. 2007

Typ akce podle státní příslušnosti

WRD - Celosvětová akce

Kód UT WoS článku

—