Vliv parametrů depozice na strukturu a rychlost růstu Al vrstev připravených metodou magnetronového naprašování

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23640%2F07%3A00000024" target="_blank" >RIV/49777513:23640/07:00000024 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
slovinština
Název v původním jazyce
Vplyv parametrov depozície na štruktúru a rýchlosť rastu Al vrstiev pripravených metódou magnetrónového naprašovania
Popis výsledku v původním jazyce
The paper deals with the evaluation of aluminium thin films properties prepared by fr and dc magnetron sputtering techniques. Structural and optical properties of deposited films were characterized in relation to type of the source, sputtering time and deposition power.
Název v anglickém jazyce
The influence of deposition parameters on structure and deposition rates of Al films prepared by magnetron sputtering
Popis výsledku anglicky
The paper deals with the evaluation of aluminium thin films properties prepared by fr and dc magnetron sputtering techniques. Structural and optical properties of deposited films were characterized in relation to type of the source, sputtering time and deposition power.

Projekt
<a href="/cs/project/1M06031" target="_blank" >1M06031: Materiály a komponenty pro ochranu životního prostředí</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění
2007
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Podobné výsledky(10)