Vliv parametrů depozice na strukturu a rychlost růstu Al vrstev připravených metodou magnetronového naprašování

Kód výsledku v IS VaVaI

RIV/49777513:23640/07:00000024 - isvavai.cz

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

slovinština

Název v původním jazyce

Vplyv parametrov depozície na štruktúru a rýchlosť rastu Al vrstiev pripravených metódou magnetrónového naprašovania

Popis výsledku v původním jazyce

The paper deals with the evaluation of aluminium thin films properties prepared by fr and dc magnetron sputtering techniques. Structural and optical properties of deposited films were characterized in relation to type of the source, sputtering time and deposition power.

Název v anglickém jazyce

The influence of deposition parameters on structure and deposition rates of Al films prepared by magnetron sputtering

Popis výsledku anglicky

The paper deals with the evaluation of aluminium thin films properties prepared by fr and dc magnetron sputtering techniques. Structural and optical properties of deposited films were characterized in relation to type of the source, sputtering time and deposition power.

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

1M06031: Materiály a komponenty pro ochranu životního prostředí

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2007

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

Vrstvy a povlaky 2007

ISBN

978-80-969310-4-0

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

3

Strana od-do

197-199

Název nakladatele

Digital graphic

Místo vydání

Trenčín

Místo konání akce

Rožnov pod Radhoštěm

Datum konání akce

1. 1. 2007

Typ akce podle státní příslušnosti

EUR - Evropská akce

Kód UT WoS článku

—