Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Strukturní a optické vlastnosti naprašovaných tenkých vrstev ZnO

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23640%2F07%3A00000048" target="_blank" >RIV/49777513:23640/07:00000048 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Structural and optical properties of sputtered ZnO thin films

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Zinc oxide (ZnO) and aluminium doped zinc oxide (ZnO:Al) thin films were prepared by RF diode sputtering at varying deposition conditions. The effects of negative bias voltage and RF power on structural and optical properties were investigated. X-ray diffraction measurements (XRD)confirmed that both un-doped and Al doped ZnO films are polycrystalline and have hexagonal wurtzite structure. The preferential <001> orientation and surface roughness evaluated by AFM measurements showed dependence on appliedbias voltage and RF power. The sputtered ZnO and ZnO:Al films had high optical transmittance (>90%) in the wavelength range of 400-800 nm, which was not influenced by bias voltage and RF power.

  • Název v anglickém jazyce

    Structural and optical properties of sputtered ZnO thin films

  • Popis výsledku anglicky

    Zinc oxide (ZnO) and aluminium doped zinc oxide (ZnO:Al) thin films were prepared by RF diode sputtering at varying deposition conditions. The effects of negative bias voltage and RF power on structural and optical properties were investigated. X-ray diffraction measurements (XRD)confirmed that both un-doped and Al doped ZnO films are polycrystalline and have hexagonal wurtzite structure. The preferential <001> orientation and surface roughness evaluated by AFM measurements showed dependence on appliedbias voltage and RF power. The sputtered ZnO and ZnO:Al films had high optical transmittance (>90%) in the wavelength range of 400-800 nm, which was not influenced by bias voltage and RF power.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/1M06031" target="_blank" >1M06031: Materiály a komponenty pro ochranu životního prostředí</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2007

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Applied Surface Science

  • ISSN

    0169-4332

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

  • Číslo periodika v rámci svazku

  • Stát vydavatele periodika

    NL - Nizozemsko

  • Počet stran výsledku

    5

  • Strana od-do

    3643

  • Kód UT WoS článku

  • EID výsledku v databázi Scopus