Crystallization process of amorphous silicon films on glass monitored by in-situ XRD
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23640%2F09%3A00502543" target="_blank" >RIV/49777513:23640/09:00502543 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Crystallization process of amorphous silicon films on glass monitored by in-situ XRD
Popis výsledku v původním jazyce
The crystallization process of amorphous silicon (a-Si) and hydrogenated a-Si (a-Si:H) films by solid phase crystallization (SPC) was monitored by in-situ X-ray diffraction (XRD). The expanding thermal plasma CVD (ETP CVD) and electron beam (EB) evaporation were used for the deposition of a-Si:H and a-Si films, respectively. The properties of the a-Si(:H) films were determined prior to crystallization by Fourier transform infrared spectroscopy, Raman spectroscopy and XRD. The crystallization process wasinvestigated by using a high temperature chamber adapted for ?in situ? monitoring by XRD. These experiments were carried out at temperatures in the range of 580 to 620 °C and provided us with information about the transition of the amorphous to the polycrystalline state. The transition behavior differed for films with and without the presence of hydrogen. The presence of hydrogen affected the annealing time required for full crystallization. The phase transformation is slightly influenc
Název v anglickém jazyce
Crystallization process of amorphous silicon films on glass monitored by in-situ XRD
Popis výsledku anglicky
The crystallization process of amorphous silicon (a-Si) and hydrogenated a-Si (a-Si:H) films by solid phase crystallization (SPC) was monitored by in-situ X-ray diffraction (XRD). The expanding thermal plasma CVD (ETP CVD) and electron beam (EB) evaporation were used for the deposition of a-Si:H and a-Si films, respectively. The properties of the a-Si(:H) films were determined prior to crystallization by Fourier transform infrared spectroscopy, Raman spectroscopy and XRD. The crystallization process wasinvestigated by using a high temperature chamber adapted for ?in situ? monitoring by XRD. These experiments were carried out at temperatures in the range of 580 to 620 °C and provided us with information about the transition of the amorphous to the polycrystalline state. The transition behavior differed for films with and without the presence of hydrogen. The presence of hydrogen affected the annealing time required for full crystallization. The phase transformation is slightly influenc
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/1M06031" target="_blank" >1M06031: Materiály a komponenty pro ochranu životního prostředí</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
2009
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
24th European Photovoltaic Solar Energy Conference and Exhibition
ISBN
3-936338-25-6
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
4
Strana od-do
—
Název nakladatele
WIP - Renewable Energies
Místo vydání
Munich
Místo konání akce
Hamburg, Germany
Datum konání akce
25. 9. 2009
Typ akce podle státní příslušnosti
EUR - Evropská akce
Kód UT WoS článku
—