Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Influence of Doping and Co-doping on the Behavior of Sputtered ZnO Thin Films

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23640%2F11%3A43921796" target="_blank" >RIV/49777513:23640/11:43921796 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="http://dx.doi.org/10.1149/1.3570855" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1149/1.3570855</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1149/1.3570855" target="_blank" >10.1149/1.3570855</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Influence of Doping and Co-doping on the Behavior of Sputtered ZnO Thin Films

  • Popis výsledku v původním jazyce

    A co-dopand approach was used to investigate influence of gallium-nitrogen co-doping on the microstructure and electrical parameters of ZnO. ZnO:Ga:N thin films were deposited by rf diode sputtering at varying nitrogen content (0 - 100%) in Ar/N2 gas. ZnO:Ga films (0% N2) showed minimum resistivity of 0.12 ohm*cm, electron concentration of 2.5e19 cm-3 and mobility of 2cm2/Vs. A hole concentration of 2.6e18 cm-3, a mobility of 2cm2/Vs and resistivity of 1.5 ohm*cm in ZnO:Ga:N resulted from the depositionwith 100% N2 in Ar/N2 gas.

  • Název v anglickém jazyce

    Influence of Doping and Co-doping on the Behavior of Sputtered ZnO Thin Films

  • Popis výsledku anglicky

    A co-dopand approach was used to investigate influence of gallium-nitrogen co-doping on the microstructure and electrical parameters of ZnO. ZnO:Ga:N thin films were deposited by rf diode sputtering at varying nitrogen content (0 - 100%) in Ar/N2 gas. ZnO:Ga films (0% N2) showed minimum resistivity of 0.12 ohm*cm, electron concentration of 2.5e19 cm-3 and mobility of 2cm2/Vs. A hole concentration of 2.6e18 cm-3, a mobility of 2cm2/Vs and resistivity of 1.5 ohm*cm in ZnO:Ga:N resulted from the depositionwith 100% N2 in Ar/N2 gas.

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

    JJ - Ostatní materiály

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/1M06031" target="_blank" >1M06031: Materiály a komponenty pro ochranu životního prostředí</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2011

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    ECS Transactions

  • ISBN

    978-1-60768-217-2

  • ISSN

    1938-5862

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    8

  • Strana od-do

    141-148

  • Název nakladatele

    The Electrochemical Society

  • Místo vydání

    Pennington

  • Místo konání akce

    Montreal, Canada

  • Datum konání akce

    1. 5. 2011

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    WRD - Celosvětová akce

  • Kód UT WoS článku

    000305936300016