Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Change of optical properties of a-Si:H films in dependence on different material structure

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23640%2F12%3A43917412" target="_blank" >RIV/49777513:23640/12:43917412 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Change of optical properties of a-Si:H films in dependence on different material structure

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Optical properties of hydrogenated amorphous (a-Si:H) and microcrystalline silicon (mýc-Si:H) are related to changes in the structural and compositional disorder. This paper describes two different technologies of fabrication of mýc-Si:H films. One of the possibilities how to obtain mýc-Si:H films of a good quality is plasma enhanced chemical vapour deposition (PECVD) with controlled hydrogen diluting of silane precursor. Second option is based on two steps: (i) PECVD deposition of a-Si:H films and (ii)isothermal heat treatment at temperature around 600 °C with phase transformation from amorphous to microcrystalline phase.

  • Název v anglickém jazyce

    Change of optical properties of a-Si:H films in dependence on different material structure

  • Popis výsledku anglicky

    Optical properties of hydrogenated amorphous (a-Si:H) and microcrystalline silicon (mýc-Si:H) are related to changes in the structural and compositional disorder. This paper describes two different technologies of fabrication of mýc-Si:H films. One of the possibilities how to obtain mýc-Si:H films of a good quality is plasma enhanced chemical vapour deposition (PECVD) with controlled hydrogen diluting of silane precursor. Second option is based on two steps: (i) PECVD deposition of a-Si:H films and (ii)isothermal heat treatment at temperature around 600 °C with phase transformation from amorphous to microcrystalline phase.

Klasifikace

  • Druh

    O - Ostatní výsledky

  • CEP obor

    BK - Mechanika tekutin

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/ED2.1.00%2F03.0088" target="_blank" >ED2.1.00/03.0088: Centrum nových technologií a materiálů (CENTEM)</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2012

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů