Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Preferred crystal orientation in Thin-Film nanocrystalline Silicon determined by Raman Spectroscopy

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23640%2F13%3A43919654" target="_blank" >RIV/49777513:23640/13:43919654 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="http://www.journals4free.com/link.jsp?l=13076633" target="_blank" >http://www.journals4free.com/link.jsp?l=13076633</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Preferred crystal orientation in Thin-Film nanocrystalline Silicon determined by Raman Spectroscopy

  • Popis výsledku v původním jazyce

    In this contribution, we report a unique approach of determining preferred orientation in hydrogenated thin film nanocrystalline silicon (nc-Si:H) using Polarized Raman Spectroscopy (PRS). This method is based on the fact that molecular vibrations in films under polarized light also give rise to polarization-dependent Raman scattered intensity depending on the grain crystal orientation of the irradiated material. First, the dependence of the Raman intensity of the 520 cm -1 TO peak on rotation angle ismeasured on (100), (110), and (111) single-crystalline silicon wafers

  • Název v anglickém jazyce

    Preferred crystal orientation in Thin-Film nanocrystalline Silicon determined by Raman Spectroscopy

  • Popis výsledku anglicky

    In this contribution, we report a unique approach of determining preferred orientation in hydrogenated thin film nanocrystalline silicon (nc-Si:H) using Polarized Raman Spectroscopy (PRS). This method is based on the fact that molecular vibrations in films under polarized light also give rise to polarization-dependent Raman scattered intensity depending on the grain crystal orientation of the irradiated material. First, the dependence of the Raman intensity of the 520 cm -1 TO peak on rotation angle ismeasured on (100), (110), and (111) single-crystalline silicon wafers

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2013

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Digest Journal of Nanomaterials and Biostructures

  • ISSN

    1842-3582

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    8

  • Číslo periodika v rámci svazku

    4

  • Stát vydavatele periodika

    RO - Rumunsko

  • Počet stran výsledku

    13

  • Strana od-do

    1461-1473

  • Kód UT WoS článku

  • EID výsledku v databázi Scopus