Towards high quality ITO coatings: The impact of nitrogen admixture in HiPIMS discharges
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F60076658%3A12310%2F18%3A43897191" target="_blank" >RIV/60076658:12310/18:43897191 - isvavai.cz</a>
Nalezeny alternativní kódy
RIV/68378271:_____/18:00489659
Výsledek na webu
<a href="https://kopernio.com/viewer?doi=10.1016/j.surfcoat.2017.12.030&route=6" target="_blank" >https://kopernio.com/viewer?doi=10.1016/j.surfcoat.2017.12.030&route=6</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2017.12.030" target="_blank" >10.1016/j.surfcoat.2017.12.030</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Towards high quality ITO coatings: The impact of nitrogen admixture in HiPIMS discharges
Popis výsledku v původním jazyce
The paper reports controlled deposition of optically transparent and electrically conductive ITO films prepared by a combination of rf (13.56 MHz) and High Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS) systems without any post deposition thermal treatment/annealing. It is shown that (i) reactive admixture of N-2 gas to the process and (ii) pressure in the deposition chamber enable to optimize optical properties of ITO films. Furthermore, the changes of electrical resistivity were observed, too. The variation of these ITO properties is attributed to change of crystalline structure measured by XRD methods.
Název v anglickém jazyce
Towards high quality ITO coatings: The impact of nitrogen admixture in HiPIMS discharges
Popis výsledku anglicky
The paper reports controlled deposition of optically transparent and electrically conductive ITO films prepared by a combination of rf (13.56 MHz) and High Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS) systems without any post deposition thermal treatment/annealing. It is shown that (i) reactive admixture of N-2 gas to the process and (ii) pressure in the deposition chamber enable to optimize optical properties of ITO films. Furthermore, the changes of electrical resistivity were observed, too. The variation of these ITO properties is attributed to change of crystalline structure measured by XRD methods.
Klasifikace
Druh
J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science
CEP obor
—
OECD FORD obor
10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/GA16-14024S" target="_blank" >GA16-14024S: Výzkum růstu tenkých nanostrukturovaných vrstev připravovaných pomocí plazmových technologií</a><br>
Návaznosti
S - Specificky vyzkum na vysokych skolach<br>I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace
Ostatní
Rok uplatnění
2018
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Surface and Coatings Technology
ISSN
0257-8972
e-ISSN
—
Svazek periodika
335
Číslo periodika v rámci svazku
FEB 15 2018
Stát vydavatele periodika
CH - Švýcarská konfederace
Počet stran výsledku
8
Strana od-do
126-133
Kód UT WoS článku
000424720800014
EID výsledku v databázi Scopus
2-s2.0-85037984029