Depoziční systém pro povlakování substrátů komplexních tvarů tvrdými, antiabrazivními vrstvami
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F60076658%3A12310%2F19%3A43899857" target="_blank" >RIV/60076658:12310/19:43899857 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
čeština
Název v původním jazyce
Depoziční systém pro povlakování substrátů komplexních tvarů tvrdými, antiabrazivními vrstvami
Popis výsledku v původním jazyce
V rámci řešení projektu byl vyvinut depoziční systém pro pokrývání substrátů komplexních tvarů tvrdými vrstvami; jedná se zejména o povlakování vnitřních povrchů dlouhých trubic o malém průměru. Depoziční systém je založen na odprašovaní duté katody ve vysoce reaktivní atmosféře, kdy je katoda koaxiálně uložena v povlakované trubici. Předkládaný funkční vzorek přináší řešení, která umožňují efektivní povlakování vnitřních částí dutin: (i) optimalizace parametrů výboje a především Larmorova poloměru volných elektronů uvnitř malých dutin, (ii) řešení zapojení elektrického obvodu pro napájení výboje a (iii) způsob dávkování reaktivního plynu pro dosažení stoichiometrie deponované vrstvy. Předložený funkční vzor byl testován pro depozici Cr-a:CH vrstev.
Název v anglickém jazyce
Functional sample of deposition system for coating of hard, anti-abrasive thin films onto substrate of complex geometry
Popis výsledku anglicky
A deposition system for coating of substrates with complex shape (in particular, coating of the inner surfaces of long tubes of small inner diameter) was developed in the frame of the project. The deposition system is based on a hollow cathode sputtering in highly reactive atmosphere; the hollow cathode is coaxially placed with the tube to be deposited. The functional sample presents the solution for effective coating of cavity-like substrates: (i) optimization of discharge parameters, particularly Larmor radius of free electrons inside a small cavity, (ii) design of electrical circuit for power supply discharge and (iii) method of reactive gas delivery to achieve stoichiometry of the deposited layer. The present functional sample was tested for deposition of Cr-a:CH thin films.
Klasifikace
Druh
G<sub>funk</sub> - Funkční vzorek
CEP obor
—
OECD FORD obor
20501 - Materials engineering
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/TN01000038" target="_blank" >TN01000038: Národní centrum kompetence pro materiály, pokročilé technologie, povlakování a jejich aplikace</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
2019
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Interní identifikační kód produktu
FVNCK1/JU/2019
Číselná identifikace
neuveden
Technické parametry
neuveden
Ekonomické parametry
Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Kategorie aplik. výsledku dle nákladů
—
IČO vlastníka výsledku
60076658
Název vlastníka
Jihočeská univerzita v Českých Budějovicích
Stát vlastníka
CZ - Česká republika
Druh možnosti využití
A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
Požadavek na licenční poplatek
A - Poskytovatel licence na výsledek požaduje licenční poplatek
Adresa www stránky s výsledkem
—