Vícetryskový PVD depoziční systém

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F16%3A00465021" target="_blank" >RIV/68378271:_____/16:00465021 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
čeština
Název v původním jazyce
Vícetryskový PVD depoziční systém
Popis výsledku v původním jazyce
Funkční vzorek představuje vysokorychlostní depoziční zařízení určené primárně pro nanášení homogenních oxidových vrstev. Systém využívá několik plazmatických trysek umístěných do jedné řady, které pracují na principu výboje v duté katodě. Vysoké depoziční rychlosti je dosahováno kombinací nereaktivního rozprašování ve vnitřním prostoru duté katody a tepelnou evaporací materiálu z povrchu trysky.
Název v anglickém jazyce
Multijet PVD deposition system
Popis výsledku anglicky
High speed deposition system for homogenous sputtering of oxide thin films. The system uses several plasma-nozzles mounted in one line, which work on the principle of hollow cathode discharge. High speed of deposition process is achieved by combination of non-reactive sputtering inside the hollow cathode with thermal evaporation of hollow cathode material.

Projekt
<a href="/cs/project/TF01000084" target="_blank" >TF01000084: Výzkum a vývoj pokročilého PVD/PECVD nízkoteplotního plazmatického systému pro depozice funkčních oxidů se zaměřením na tenké a tlusté vrstvy TiO2 pro průmyslové aplikace.</a><br>
Návaznosti
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Rok uplatnění
2016
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Interní identifikační kód produktu
UHV-4DK/FZU2016
Číselná identifikace
—
Technické parametry
Výsledek je tvořen UHV systémem čerpaným rotační a turbomolekulární vývěvou a obsahuje 4 lineární plazmové trysky pracující na principu výboje v duté katodě. Systém je průběžně upgradován. Ve spouštěcí konfi-guraci měl následující technické parametry: mezní tlak p0: 1∙10-3 Pa, pracovní tlak pw: 0.1 – 100 Pa, maximální napětí na zdroji: Um: 600 V, maximální výbojový proud: Im: 5 A, příčný rozměr substrátu lm: až 20 cm, maximální depoziční rychlost dosažená pro TiO2 vrstvy rm: 20 μm/hod.
Ekonomické parametry
Vyvinutý depoziční systém umožňuje vysokorychlostní depozici homogenních oxidových vrstev. Oproti dostupným komerčním magnetronovým systémům dosahuje v DC režimu až desetinásobnou depoziční rychlost.
Kategorie aplik. výsledku dle nákladů
—
IČO vlastníka výsledku
68378271
Název vlastníka
Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i., Na Slovance 2, Praha 8
Stát vlastníka
CZ - Česká republika
Druh možnosti využití
P - Využití výsledku jiným subjektem je v některých případech možné bez nabytí licence
Požadavek na licenční poplatek
Z - Poskytovatel licence na výsledek nepožaduje v některých případech licenční poplatek
Adresa www stránky s výsledkem
—

Podobné výsledky(10)