Depozice tenkých TiOx pomocí surfatronem generovaného plazmatu

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F60076658%3A12410%2F07%3A00008104" target="_blank" >RIV/60076658:12410/07:00008104 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Deposition of thin TiOx films by surfatron generated plasma

Popis výsledku v původním jazyce

The paper reports first results of TiOx thin films deposition using surfatron produced discharge of jet type at reduced pressure. Plasma was created from Ar/O2 gas mixture flowing through a quartz tube inserted into the surfatron cavity powered by MW source working at frequency 2.45 GHz. Plasma crated in this manner is sustained further downstream by surface wave and exiting the tube. The vapours of titanium isopropoxide were delivered into the plasma bulk nearby the quartz tube outlet. The thin TiOx films were deposited on the heated glass substrates, distanced 8 mm from the end of the tube, up to 60 minutes. The results of deposited layers diagnostics - XRD, AFM and photoelectrochemical measurements - are discussed altogether as dependences on time of deposition.

Název v anglickém jazyce

Deposition of thin TiOx films by surfatron generated plasma

Popis výsledku anglicky

The paper reports first results of TiOx thin films deposition using surfatron produced discharge of jet type at reduced pressure. Plasma was created from Ar/O2 gas mixture flowing through a quartz tube inserted into the surfatron cavity powered by MW source working at frequency 2.45 GHz. Plasma crated in this manner is sustained further downstream by surface wave and exiting the tube. The vapours of titanium isopropoxide were delivered into the plasma bulk nearby the quartz tube outlet. The thin TiOx films were deposited on the heated glass substrates, distanced 8 mm from the end of the tube, up to 60 minutes. The results of deposited layers diagnostics - XRD, AFM and photoelectrochemical measurements - are discussed altogether as dependences on time of deposition.

Druh

A - Audiovizuální tvorba

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/GA202%2F05%2F2242" target="_blank" >GA202/05/2242: Studium nových nízkoteplotních plazmatických zdrojů pracujících za atmosférického tlaku z hlediska jejich využití pro depozice tenkých vrstev</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2007

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

ISBN

978-80-87026-00-7

Místo vydání

Praha

Název nakladatele resp. objednatele

Ústav fyziky plazmatu, AV ČR

Verze

—

Identifikační číslo nosiče

CD ROM