Deposition of Al2O3 on Ceramic Substrates by PECVD Method
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F60461373%3A22310%2F00%3A00003759" target="_blank" >RIV/60461373:22310/00:00003759 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Deposition of Al2O3 on Ceramic Substrates by PECVD Method
Popis výsledku v původním jazyce
Low temperature deposition of aluminium oxide films using a plasma enhanced metal-organic chemical vapor deposition technique is described. The plasma was generated by a 40kHz RF. A single molecular source reagent trimethylaluminium, was carra away into
Název v anglickém jazyce
Deposition of Al2O3 on Ceramic Substrates by PECVD Method
Popis výsledku anglicky
Low temperature deposition of aluminium oxide films using a plasma enhanced metal-organic chemical vapor deposition technique is described. The plasma was generated by a 40kHz RF. A single molecular source reagent trimethylaluminium, was carra away into
Klasifikace
Druh
A - Audiovizuální tvorba
CEP obor
CA - Anorganická chemie
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
—
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2000
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
ISBN
80-85988-48-8
Místo vydání
Ostrava
Název nakladatele resp. objednatele
TANGER Ostrava
Verze
—
Identifikační číslo nosiče
—