Impedanční spektrograf pro měření impedance deponované vrstvy ve výbojovém plazmatu

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F61989592%3A15310%2F17%3A73584782" target="_blank" >RIV/61989592:15310/17:73584782 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="http://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0031/uv031194.pdf" target="_blank" >http://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0031/uv031194.pdf</a>
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
čeština
Název v původním jazyce
Impedanční spektrograf pro měření impedance deponované vrstvy ve výbojovém plazmatu
Popis výsledku v původním jazyce
Impedanční spektrograf plazmatu je zařízení, které umožňuje během doby růstu tenké vrstvy v plazmatu určit a vyčlenit z celkové naměřené impedance v reálném čase samostatnou impedanci deponované vrstvy, tedy její reálnou a imaginární část, v závislosti na frekvenci a určit kapacitu a paralelní odpor deponované vrstvy. Oddělením impedance deponované vrstvy na sondách získáme také samostatnou impedanci vlastního výbojového plazmatu. Z této impedance můžeme dále získat informaci o hustotě výbojového plazmatu tedy koncentrace elektronů ve výbojovém plazmatu.
Název v anglickém jazyce
An impedance spectrograph for impedance measurement of a deposited layer in discharge plasma
Popis výsledku anglicky
Impedance spectrometer of plasma is a device which can measure and can exclude the impedance of deposited thin film from the total impedance during the growth process in the plasma. It means to determine the real and imaginary part in dependence on frequency and calculate the capacitance and parallel resistance of deposited film. By excluding of the impedance of deposited film, we can further determine and impedance of discharge plasma. We can get from this plasma impedance the information about a plasma density (electron concentration) of discharge plasma.

Projekt
<a href="/cs/project/TA04011156" target="_blank" >TA04011156: Funkční tenkovrstvé optické struktury.</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění
2017
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Číslo patentu nebo vzoru
31194
Vydavatel
CZ001 -
Název vydavatele
Industrial Property Office
Místo vydání
Prague
Stát vydání
CZ - Česká republika
Datum přijetí
—
Název vlastníka
Univerzita Palackého v Olomouci
Způsob využití
A - Výsledek využívá pouze poskytovatel
Druh možnosti využití
P - Využití výsledku jiným subjektem je v některých případech možné bez nabytí licence

Podobné výsledky(10)