Origin of ohmic behaviour in Ni, Ni2Si and Pd contacts on n-type SiC
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F60461373%3A22310%2F10%3A00023000" target="_blank" >RIV/60461373:22310/10:00023000 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Origin of ohmic behaviour in Ni, Ni2Si and Pd contacts on n-type SiC
Popis výsledku v původním jazyce
Ni, Ni2Si and Pd contacts were prepared on n-type 4H-SiC and annealed in the temperature range of 750-1150 C.The results show that ohmic behavior of Ni-based and Pd contacts on n-type SiC originates from the formation of graphitic carbon at the interfacewith SiC.
Název v anglickém jazyce
Origin of ohmic behaviour in Ni, Ni2Si and Pd contacts on n-type SiC
Popis výsledku anglicky
Ni, Ni2Si and Pd contacts were prepared on n-type 4H-SiC and annealed in the temperature range of 750-1150 C.The results show that ohmic behavior of Ni-based and Pd contacts on n-type SiC originates from the formation of graphitic carbon at the interfacewith SiC.
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
—
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)<br>S - Specificky vyzkum na vysokych skolach
Ostatní
Rok uplatnění
2010
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Applied Surface Science
ISSN
0169-4332
e-ISSN
—
Svazek periodika
257
Číslo periodika v rámci svazku
2
Stát vydavatele periodika
GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska
Počet stran výsledku
9
Strana od-do
—
Kód UT WoS článku
000281674200012
EID výsledku v databázi Scopus
—