Origin of ohmic behaviour in Ni, Ni2Si and Pd contacts on n-type SiC

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F60461373%3A22310%2F10%3A00023000" target="_blank" >RIV/60461373:22310/10:00023000 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Origin of ohmic behaviour in Ni, Ni2Si and Pd contacts on n-type SiC

Popis výsledku v původním jazyce

Ni, Ni2Si and Pd contacts were prepared on n-type 4H-SiC and annealed in the temperature range of 750-1150 C.The results show that ohmic behavior of Ni-based and Pd contacts on n-type SiC originates from the formation of graphitic carbon at the interfacewith SiC.

Název v anglickém jazyce

Origin of ohmic behaviour in Ni, Ni2Si and Pd contacts on n-type SiC

Popis výsledku anglicky

Ni, Ni2Si and Pd contacts were prepared on n-type 4H-SiC and annealed in the temperature range of 750-1150 C.The results show that ohmic behavior of Ni-based and Pd contacts on n-type SiC originates from the formation of graphitic carbon at the interfacewith SiC.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

OECD FORD obor

—

Projekt

—

Návaznosti

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)<br>S - Specificky vyzkum na vysokych skolach

Rok uplatnění

2010

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Applied Surface Science

ISSN

0169-4332

e-ISSN

—

Svazek periodika

257

Číslo periodika v rámci svazku

2

Stát vydavatele periodika

GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska

Počet stran výsledku

9

Strana od-do

—

Kód UT WoS článku

000281674200012

EID výsledku v databázi Scopus

—