Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Residual strain in recessed AlGaN/GaN heterostructure field-effect transistors evaluated by micro photoluminescence measurements

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F60461373%3A22310%2F12%3A43893538" target="_blank" >RIV/60461373:22310/12:43893538 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="http://dx.doi.org/10.1002/pssc.201100408" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1002/pssc.201100408</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1002/pssc.201100408" target="_blank" >10.1002/pssc.201100408</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Residual strain in recessed AlGaN/GaN heterostructure field-effect transistors evaluated by micro photoluminescence measurements

  • Popis výsledku v původním jazyce

    The residual strain in AlGaN/GaN heterostructure field-effect transistors (HFETs) with recessed gates and their non-recessed counterparts were investigated by micro photoluminescence measurements (mu-PL). It is found that strain relaxation accounts for the observed sheet carrier density reduction after gate recessing. The usefulness of the method for device processing optimization is demonstrated.

  • Název v anglickém jazyce

    Residual strain in recessed AlGaN/GaN heterostructure field-effect transistors evaluated by micro photoluminescence measurements

  • Popis výsledku anglicky

    The residual strain in AlGaN/GaN heterostructure field-effect transistors (HFETs) with recessed gates and their non-recessed counterparts were investigated by micro photoluminescence measurements (mu-PL). It is found that strain relaxation accounts for the observed sheet carrier density reduction after gate recessing. The usefulness of the method for device processing optimization is demonstrated.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    CA - Anorganická chemie

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2012

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Physica Status Solidi (c)

  • ISSN

    1610-1634

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    9

  • Číslo periodika v rámci svazku

    3-4

  • Stát vydavatele periodika

    DE - Spolková republika Německo

  • Počet stran výsledku

    4

  • Strana od-do

    911-914

  • Kód UT WoS článku

    000306521600124

  • EID výsledku v databázi Scopus