Semiconductor Gas Sensors Prepared by Sputtering
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F60461373%3A22340%2F00%3A00006274" target="_blank" >RIV/60461373:22340/00:00006274 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Semiconductor Gas Sensors Prepared by Sputtering
Popis výsledku v původním jazyce
Thin films of several metal oxides were prepared by cathodic sputtering. The sputtering of oxides is a suitable technology for mass production of cheap and sensitive sensors.
Název v anglickém jazyce
Semiconductor Gas Sensors Prepared by Sputtering
Popis výsledku anglicky
Thin films of several metal oxides were prepared by cathodic sputtering. The sputtering of oxides is a suitable technology for mass production of cheap and sensitive sensors.
Klasifikace
Druh
A - Audiovizuální tvorba
CEP obor
JB - Senzory, čidla, měření a regulace
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
—
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2000
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
ISBN
—
Místo vydání
Kouty nad Desnou
Název nakladatele resp. objednatele
MSM
Verze
—
Identifikační číslo nosiče
—