Modelling of low energy ion sputtering from oxide surfaces
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68407700%3A21230%2F10%3A00168118" target="_blank" >RIV/68407700:21230/10:00168118 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Modelling of low energy ion sputtering from oxide surfaces
Popis výsledku v původním jazyce
The main aim of this work is to present a way to estimate the values of surface binding energy for oxides. This is done by fitting results from the binary collisions approximation code Tridyn with data from the reactive sputtering processing curves, as well as the elemental composition obtained from x-ray photoelectron spectroscopy (XPS). Oxide targets of Al, Ti, V, Nb and Ta are studied. The obtained surface binding energies are then used to predict the partial sputtering yields. Anomalously high sputtering yield is observed for the TiO 2 target. This is attributed to the high sputtering yield of Ti lower oxides. Such an effect is not observed for the other studied metals. XPS measurement of the oxide targets confirms the formation of suboxides duringion bombardment as well as an oxygen deficient surface in the steady state. These effects are confirmed from the processing curves from the oxide targets showing an elevated sputtering rate in pure argon.
Název v anglickém jazyce
Modelling of low energy ion sputtering from oxide surfaces
Popis výsledku anglicky
The main aim of this work is to present a way to estimate the values of surface binding energy for oxides. This is done by fitting results from the binary collisions approximation code Tridyn with data from the reactive sputtering processing curves, as well as the elemental composition obtained from x-ray photoelectron spectroscopy (XPS). Oxide targets of Al, Ti, V, Nb and Ta are studied. The obtained surface binding energies are then used to predict the partial sputtering yields. Anomalously high sputtering yield is observed for the TiO 2 target. This is attributed to the high sputtering yield of Ti lower oxides. Such an effect is not observed for the other studied metals. XPS measurement of the oxide targets confirms the formation of suboxides duringion bombardment as well as an oxygen deficient surface in the steady state. These effects are confirmed from the processing curves from the oxide targets showing an elevated sputtering rate in pure argon.
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/GAP108%2F10%2F0218" target="_blank" >GAP108/10/0218: Pokročilé self-adaptivní povlaky s nízkým třením na bázi dichalkogenidů přechodových kovů s uhlíkem</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
2010
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Journal of Physics D: Applied Physics
ISSN
0022-3727
e-ISSN
—
Svazek periodika
43
Číslo periodika v rámci svazku
20
Stát vydavatele periodika
GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska
Počet stran výsledku
6
Strana od-do
—
Kód UT WoS článku
000277373400012
EID výsledku v databázi Scopus
—