Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Fyzikální a chemická vlastnost plazmaticky polymerizovaného tetravinylsilanu

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F61389005%3A_____%2F07%3A00097581" target="_blank" >RIV/61389005:_____/07:00097581 - isvavai.cz</a>

  • Nalezeny alternativní kódy

    RIV/00216305:26310/07:PU70613

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Physico-chemical properties of plasma-polymerized tetravinylsilane

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Plasma polymer films of tetravinylsilane were deposited on silicon wafers using an RF glow discharge operated in pulsed mode. Microscopic and spectroscopic techniques revealed that physico-chemical properties of plasma polymer depend on the effective power used if the flow rate was constant. The deposition rate (8-165 nm min(-1)) and surface roughness (2.0-5.8 nm) of films varied with the RF power. An organic/inorganic character (C/Si ratio) of films and a content of vinyl groups could be controlled bythe effective power. The refractive index of films increased with power from 1.63 (0.05 W) to 1.75 (10 W) at a wavelength of 633 nm and the extinction coefficient rose sharply with the power from 0.09 (0.05 W) to 0.37 (10 W) at a wavelength of 240 nm. The elastic modulus and hardness of plasma polymer could be varied from 11 GPa (0.05 W) to 30 GPa (10 W) and from 1.4 to 5.9 GPa, respectively. (C) 2006 Elsevier B.V. All rights reserved.

  • Název v anglickém jazyce

    Physico-chemical properties of plasma-polymerized tetravinylsilane

  • Popis výsledku anglicky

    Plasma polymer films of tetravinylsilane were deposited on silicon wafers using an RF glow discharge operated in pulsed mode. Microscopic and spectroscopic techniques revealed that physico-chemical properties of plasma polymer depend on the effective power used if the flow rate was constant. The deposition rate (8-165 nm min(-1)) and surface roughness (2.0-5.8 nm) of films varied with the RF power. An organic/inorganic character (C/Si ratio) of films and a content of vinyl groups could be controlled bythe effective power. The refractive index of films increased with power from 1.63 (0.05 W) to 1.75 (10 W) at a wavelength of 633 nm and the extinction coefficient rose sharply with the power from 0.09 (0.05 W) to 0.37 (10 W) at a wavelength of 240 nm. The elastic modulus and hardness of plasma polymer could be varied from 11 GPa (0.05 W) to 30 GPa (10 W) and from 1.4 to 5.9 GPa, respectively. (C) 2006 Elsevier B.V. All rights reserved.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BG - Jaderná, atomová a molekulová fyzika, urychlovače

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2007

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Surface and Coatings Technology

  • ISSN

    0257-8972

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    201

  • Číslo periodika v rámci svazku

    9-11

  • Stát vydavatele periodika

    CH - Švýcarská konfederace

  • Počet stran výsledku

    6

  • Strana od-do

    5512-5517

  • Kód UT WoS článku

  • EID výsledku v databázi Scopus