Youngův modul pružnosti v plazmových polymerů na bázi organokřemičitanů řízený RF výkonem

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26310%2F05%3APU52892" target="_blank" >RIV/00216305:26310/05:PU52892 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

RF-power-controlled Young's modulus of plasma-polymerized organosilicon films

Popis výsledku v původním jazyce

Elastic thin films of vinyltriethoxysilane were prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition using an RF (13.56 MHz) helical coupling plasma system. An effective power density ranging from 8 . 10-4 to 0.3 W cm-3 was used to control the Young's modulus of films to a range of 3.7 - 11.3 GPa. The modulus decreased slightly with the film thickness varying from 80 nm to 1.5 microns for films prepared under the same deposition conditions. The hardness of films (0.7 - 2.1 GPa) was proportional to theYoung's modulus with a relatively high ratio of 0.185 associated with a higher mean compressive elastic strain with respect to other groups of plasma polymers (0.059 - 0.115). Thin films exhibited an abrupt increase in hardness at the film surface related to post-deposition oxidation.

Název v anglickém jazyce

RF-power-controlled Young's modulus of plasma-polymerized organosilicon films

Popis výsledku anglicky

Elastic thin films of vinyltriethoxysilane were prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition using an RF (13.56 MHz) helical coupling plasma system. An effective power density ranging from 8 . 10-4 to 0.3 W cm-3 was used to control the Young's modulus of films to a range of 3.7 - 11.3 GPa. The modulus decreased slightly with the film thickness varying from 80 nm to 1.5 microns for films prepared under the same deposition conditions. The hardness of films (0.7 - 2.1 GPa) was proportional to theYoung's modulus with a relatively high ratio of 0.185 associated with a higher mean compressive elastic strain with respect to other groups of plasma polymers (0.059 - 0.115). Thin films exhibited an abrupt increase in hardness at the film surface related to post-deposition oxidation.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

JI - Kompositní materiály

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2005

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Journal of Materials Science

ISSN

0022-2461

e-ISSN

—

Svazek periodika

40

Číslo periodika v rámci svazku

18

Stát vydavatele periodika

CZ - Česká republika

Počet stran výsledku

4

Strana od-do

5099-5102

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—