Mechanical properties of pulsed-plasma polymerized vinyltriethoxysilane

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26310%2F03%3APU38788" target="_blank" >RIV/00216305:26310/03:PU38788 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Mechanical properties of pulsed-plasma polymerized vinyltriethoxysilane

Popis výsledku v původním jazyce

Plasma-polymerized thin films of vinyltriethoxysilane have been prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition using an RF (13.56 MHz) helical coupling pulsed-plasma system. Thin films of the thickness ranging from 80 nm to 1.5 um were subjected to nanoindentation measurements. The Young's modulus determined from the indentation load-displacement curve has increased with the effective power used from 4 GPa to 11 GPa. Thin films have exhibited an abrupt increase of the hardness at the film surfacee.

Název v anglickém jazyce

Mechanical properties of pulsed-plasma polymerized vinyltriethoxysilane

Popis výsledku anglicky

Plasma-polymerized thin films of vinyltriethoxysilane have been prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition using an RF (13.56 MHz) helical coupling pulsed-plasma system. Thin films of the thickness ranging from 80 nm to 1.5 um were subjected to nanoindentation measurements. The Young's modulus determined from the indentation load-displacement curve has increased with the effective power used from 4 GPa to 11 GPa. Thin films have exhibited an abrupt increase of the hardness at the film surfacee.

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2003

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

16th International Symposium on Plasma Chemistry

ISBN

—

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

6

Strana od-do

461-466

Název nakladatele

Department of chemistry, University of Bari

Místo vydání

Bari

Místo konání akce

Taormina

Datum konání akce

21. 6. 2003

Typ akce podle státní příslušnosti

WRD - Celosvětová akce

Kód UT WoS článku

—