EUV nanosecond laser ablation of silicon carbide, tungsten and molybdenum

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F61389021%3A_____%2F15%3A00452428" target="_blank" >RIV/61389021:_____/15:00452428 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

EUV nanosecond laser ablation of silicon carbide, tungsten and molybdenum

Popis výsledku v původním jazyce

In this paper we present results of study interaction of nanosecond EUV laser pulses at wavelength of 46.9 nm with silicon carbide, tungsten and molybdenum. As a source of laser radiation was used discharge plasma driver CAPEX (CAPillary EXperiment) based on high current capillary discharge in argon. The laser beam is focused with a spherical Si/Sc multilayer coated mirror on samples. Experimental study has been performed with 1, 5, 10, 20 and 50 laser pulses ablation of silicon carbide, tungsten and molybdenum at various fluence values. Sample surface modification in the nanosecond time scale have been inspected optically.

Název v anglickém jazyce

EUV nanosecond laser ablation of silicon carbide, tungsten and molybdenum

Popis výsledku anglicky

In this paper we present results of study interaction of nanosecond EUV laser pulses at wavelength of 46.9 nm with silicon carbide, tungsten and molybdenum. As a source of laser radiation was used discharge plasma driver CAPEX (CAPillary EXperiment) based on high current capillary discharge in argon. The laser beam is focused with a spherical Si/Sc multilayer coated mirror on samples. Experimental study has been performed with 1, 5, 10, 20 and 50 laser pulses ablation of silicon carbide, tungsten and molybdenum at various fluence values. Sample surface modification in the nanosecond time scale have been inspected optically.

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Rok uplatnění

2015

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

Conference proceedings of 9th International Conference on Reactive Plasmas, 68th Gaseous Electronics Conference and 33rd Symposium on Plasma Processing

ISBN

978-4-86348-529-7

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

2

Strana od-do

"GT1.00124"-"GT1.00124"

Název nakladatele

Japan Society of Applied Physics

Místo vydání

Meieki, Nakamura-ku, Nagoya

Místo konání akce

Honolulu, Hawaii

Datum konání akce

12. 10. 2015

Typ akce podle státní příslušnosti

WRD - Celosvětová akce

Kód UT WoS článku

—