Zajištění plošné homogenity při depozici složitých systémů vrstev

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F61389021%3A_____%2F18%3A00494421" target="_blank" >RIV/61389021:_____/18:00494421 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
čeština
Název v původním jazyce
Zajištění plošné homogenity při depozici složitých systémů vrstev
Popis výsledku v původním jazyce
V této zprávě popisujeme postup optimalizace depozice interferenčního filtru s cílem dosáhnout homogenní tloušťky vrstvy na co největším rozsahu deponované plochy. Za použití depoziční masky a rotace depoziční kaloty dosahujeme homogenity ± 0.5% pro vzorky do průměru 5 cm. Zkoumáme poté vliv naklonění substrátu a depozici na zakřivený povrch čočky na homogenitu deponované vrstvy.
Název v anglickém jazyce
Attaining surface homogeneity in the deposition of complex layer systems
Popis výsledku anglicky
We report on a procedure of optimization of a thin-film deposition process with respect to the best attainable layer homogeneity on a large deposited surface. By using a deposition mask and rotation of the deposition calotte, we reach the homogeneity of ± 0.5% for samples with the diameter up to 5 cm. Furthermore, we investigate the effect of substrate tilt and of a deposition on a curved lens surface with respect to homogeneity of the deposited layer.

Projekt
<a href="/cs/project/LO1206" target="_blank" >LO1206: Moderní optické systémy a technologie</a><br>
Návaznosti
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Rok uplatnění
2018
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Podobné výsledky(10)