Vliv použitého modelu odrazivosti na určení tloušťky tenké vrstvy

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F61989100%3A27350%2F08%3A00019681" target="_blank" >RIV/61989100:27350/08:00019681 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

čeština

Název v původním jazyce

Vliv použitého modelu odrazivosti na určení tloušťky tenké vrstvy

Popis výsledku v původním jazyce

Práce prezentuje vliv použití různých modelů odrazivosti systému tenká vrstva - podložka na vypočtení tloušťky tenké vrstvy. V prostředí Matlabu je vytvořen program, který pomocí obecného modelu vypočte teoretický průběh spektrální odrazivosti v závislosti na vlnové délce pro zvolenou tloušťku tenké vrstvy. Takto vypočtená odrazivost, která v další fázi studia simuluje naměřenou odrazivost, je zpracována dalším programem v Matlabu, který simulované (naměřené) reflexní spektrum fituje spektrem teoretickým, kde fitovaným parametrem je tloušťka vrstvy. Ve vstupních souborech fitovaného teoretického reflexního spektra jsou použity různé kombinace disperzních a nedisperzních optických parametrů systému tenká vrstva ? podložka a je sledován jejich vliv na hodnotu vypočtené tloušťky tenké vrstvy.

Název v anglickém jazyce

Effect of the reflectance model on determination of the thin-film thickness

Popis výsledku anglicky

This paper presents the effect of various reflectance models of the thin-film structure system on determination of the thin-film thickness. A special program was created in software package Matlab, which is able to calculate theoretical spectral reflectance in selected wavelength interval for the certain thin-film thickness. Afterwards, this reflectance, which simulates experimental reflectance during the following study, is processed by other program in Matlab. In this way the simulated reflectance isfitted to theoretical one with thin-film thickness as fitted parameter. Different combinations of optical parameters - dispersive and non-dispersive - for the thin-film structure system can be used as the input for the program files in the fitted reflection spectrum. Finally, the effect of reflectance models on the value of the thin-film thickness is discussed.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BH - Optika, masery a lasery

OECD FORD obor

—

Projekt

—

Návaznosti

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2008

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Jemná mechanika a optika

ISSN

0447-6441

e-ISSN

—

Svazek periodika

53

Číslo periodika v rámci svazku

11-12

Stát vydavatele periodika

CZ - Česká republika

Počet stran výsledku

3

Strana od-do

—

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—