Lokální oxidační litografie na křemíkovém waferu
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F61989592%3A15310%2F12%3A33139088" target="_blank" >RIV/61989592:15310/12:33139088 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
čeština
Název v původním jazyce
Lokální oxidační litografie na křemíkovém waferu
Popis výsledku v původním jazyce
Lokální anodická oxidace je metoda umožňující změnu povrchu (polo)vodivého vzorku za běžných laboratorních podmínek. Jediným požadavkem na prostředí je zvýšená relativní vlhkost vzduchu v blízkém okolí vzorku. Velikost oxidační stopy je ovlivněna především ostrostí použitého hrotu, ale i dalšími parametry. Výška stopy a její spojitost je nepřímo závislá na rychlosti posuvu hrotu při zápisu. Ukazuje se, že samotné nastavení podmínek systémiu je méně problematické než vzorek samotný. V případě křemíkovéhomateriálu dochází k vytváření nativní oxidační vrstvy na povrchu materiálu. Tím je znemožněna tvorba další oxidační stopy.
Název v anglickém jazyce
Local anodic oxidation on silicon wafer
Popis výsledku anglicky
Local anodic oxidation lithography is a method that can change the surface of (semi)conductive sample i routine laboratory conditions. Increased humidity in the near vicinity of the sample is the only requirement. Mainly the tip sharpness but also many other parameters indicate the size of oxidation trace. Height and smooth of the trace is inversely proportional to the speed. It turns out that set up of the system is less problematic than the sample itself. In the case of silicon, easy oxidation prohibits the formation of intended oxide layer by local oxidation.
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
JJ - Ostatní materiály
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
—
Návaznosti
S - Specificky vyzkum na vysokych skolach
Ostatní
Rok uplatnění
2012
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Jemná mechanika a optika
ISSN
0447-6441
e-ISSN
—
Svazek periodika
57
Číslo periodika v rámci svazku
7-8
Stát vydavatele periodika
CZ - Česká republika
Počet stran výsledku
4
Strana od-do
202-205
Kód UT WoS článku
—
EID výsledku v databázi Scopus
—