IČ laserový rozklad 1,3-disilacyklobutanu v přítomnosti sirouhlíku: chemická deposice polythiakarbosilanu z plynné fáze

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F67985858%3A_____%2F04%3A00104840" target="_blank" >RIV/67985858:_____/04:00104840 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

IR Laser Decomposition of 1,3-Disilacyclobutane in Presence of Carbon Disulfide: Chemical Vapour Deposition of Polythiacarbosilane

Popis výsledku v původním jazyce

TEA CO2 laser irradiation of gaseous mixtures of 1,3-disilacyclobutane ů carbon disulfide affords chemical vapour deposition of solid polythiacarbosilane films that possess Si-S-X ( X= Si, C), S-H and Si-H bonds and undergo slow hydrolysis in air to polyoxothiacarbosilanes containing Si-H, Si-O-Si and (C)S-H bonds. The formation of the polythiocarbosilane is proposed to take place via dehydrogenative polymerization of transient silene and incorporation of CS2 into formed polysilene network

Název v anglickém jazyce

IR Laser Decomposition of 1,3-Disilacyclobutane in Presence of Carbon Disulfide: Chemical Vapour Deposition of Polythiacarbosilane

Popis výsledku anglicky

TEA CO2 laser irradiation of gaseous mixtures of 1,3-disilacyclobutane ů carbon disulfide affords chemical vapour deposition of solid polythiacarbosilane films that possess Si-S-X ( X= Si, C), S-H and Si-H bonds and undergo slow hydrolysis in air to polyoxothiacarbosilanes containing Si-H, Si-O-Si and (C)S-H bonds. The formation of the polythiocarbosilane is proposed to take place via dehydrogenative polymerization of transient silene and incorporation of CS2 into formed polysilene network

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

CC - Organická chemie

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/ME%20612" target="_blank" >ME 612: Laserová deposice nových polymerů a kompositů</a><br>

Návaznosti

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2004

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Journal of Organometallic Chemistry

ISSN

0022-328X

e-ISSN

—

Svazek periodika

689

Číslo periodika v rámci svazku

16

Stát vydavatele periodika

US - Spojené státy americké

Počet stran výsledku

5

Strana od-do

2697-2701

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—