UV laserově iniciovaná chemická deposice nanostrukturovaného Si/C/O/N/H prekursoru oxykarbonitridu křemíku

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F67985858%3A_____%2F06%3A00055089" target="_blank" >RIV/67985858:_____/06:00055089 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

UV Laser Deposition of Nanostructured Si/C/O/N/H Precursor to Silicon Oxycarbonitride

Popis výsledku v původním jazyce

Megawatt ArF laser photolysis of gaseous methyldisilazanes [(CH3)nH3-nSi]2NH (n = 2,3) in excess of Ar yields hydrocarbons (major volatile products), methylsilanes (minor volatile products) and allows chemical vapour deposition of solid amorphous Si/C/O/N/H powder containing Si-X (X = C, H, O, N) bonds. The incorporation of O is due to a high reactivity of the primarily formed products towards air moisture. The resulting solid materials possess nanometer-sized texture, high specific area, contain Si-centered radicals and they anneal to silicon oxycarbonitride, whose structure is described as a network of O- and N-interconnected Si and C atoms.

Název v anglickém jazyce

UV Laser Deposition of Nanostructured Si/C/O/N/H Precursor to Silicon Oxycarbonitride

Popis výsledku anglicky

Megawatt ArF laser photolysis of gaseous methyldisilazanes [(CH3)nH3-nSi]2NH (n = 2,3) in excess of Ar yields hydrocarbons (major volatile products), methylsilanes (minor volatile products) and allows chemical vapour deposition of solid amorphous Si/C/O/N/H powder containing Si-X (X = C, H, O, N) bonds. The incorporation of O is due to a high reactivity of the primarily formed products towards air moisture. The resulting solid materials possess nanometer-sized texture, high specific area, contain Si-centered radicals and they anneal to silicon oxycarbonitride, whose structure is described as a network of O- and N-interconnected Si and C atoms.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

CA - Anorganická chemie

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/ME%20684" target="_blank" >ME 684: Laserově a atomy Cl iniciovaná deposice nových polykarbosilazanů z plynné fáze</a><br>

Návaznosti

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2006

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Applied Organometallic Chemistry

ISSN

0268-2605

e-ISSN

—

Svazek periodika

20

Číslo periodika v rámci svazku

10

Stát vydavatele periodika

GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska

Počet stran výsledku

8

Strana od-do

648-655

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—