Koloidní difuzní zdroj fosforu pro přípravu dotovaného křemíku

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F67985882%3A_____%2F20%3A00537418" target="_blank" >RIV/67985882:_____/20:00537418 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="https://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/Patents/FullDocuments/308/308558.pdf" target="_blank" >https://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/Patents/FullDocuments/308/308558.pdf</a>
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
čeština
Název v původním jazyce
Koloidní difuzní zdroj fosforu pro přípravu dotovaného křemíku
Popis výsledku v původním jazyce
Koloidní difuzní zdroj fosforu pro přípravu dotovaného křemíku zahrnuje způsob přípravy koloidních difuzních zdrojů a jejich využití při přípravě křemíkových polovodičů typu N nebo polovodičového přechodu PN
Název v anglickém jazyce
Colloidal diffusion source of phosphorus for preparing doped silicon
Popis výsledku anglicky
The colloidal diffusion source of phosphorus for preparing doped silicon includes a method for preparing colloidal diffusion sources and their use in preparing N-type silicon semiconductors or a PN semiconductor junctionnealing

Projekt
<a href="/cs/project/FV30151" target="_blank" >FV30151: Koloidní difuzní zdroje pro technologii výkonových polovodičových součástek</a><br>
Návaznosti
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Rok uplatnění
2020
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Číslo patentu nebo vzoru
308558
Vydavatel
CZ001 -
Název vydavatele
Industrial Property Office
Místo vydání
Prague
Stát vydání
CZ - Česká republika
Datum přijetí
19. 10. 2020
Název vlastníka
Ústav fotoniky a elektroniky AV ČR, v. v. i.
Způsob využití
A - Výsledek využívá pouze poskytovatel
Druh možnosti využití
P - Využití výsledku jiným subjektem je v některých případech možné bez nabytí licence

Podobné výsledky(10)