Příprava víceúrovňových difraktivních optických elementů elektronovou litografií.

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F03%3A12030001" target="_blank" >RIV/68081731:_____/03:12030001 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

čeština

Název v původním jazyce

Příprava víceúrovňových difraktivních optických elementů elektronovou litografií.

Popis výsledku v původním jazyce

V této publikaci jsou uvedeny výsledky prací týkajících se přípravy binárních a víceúrovňových fázových optických prvků (PDOE) užitím technologie el ektronové litografie. Technologie elektronové litografie byla použita přím o pro modifikaci reliéfů tenkých vrstev rezistu PMMA tak, aby vytvořená re liéfní struktura v PMMA byla opticky funkční pro daný fázový optický eleme nt. V práci jsou diskutovány problémy související s možnostmi elektronové litografie vytvářet definované 3D reliéfní struktury v tenkých vrstvách rezistu PMMA.

Název v anglickém jazyce

Fabrication of Multilevel Diffractive Optical Elements using Electron Beam Lithography.

Popis výsledku anglicky

This paper presents the results of a research concerning the fabrication of binary and multi-level phase-only diffractive optical elements (PDOE) us ing the technology of electron beam lithography. The electron beam lithography technology was used directly for modification of the reliefs of thin layers of PMMA resist such that the relief structure created in PMMA be optically functional for the given phase-only optical element. The paper inc ludes discussion of the issues pertaining to the capabilitiesof electron beam lithography to create defined 3D relief structures in thin layers of PMMA resist.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/IBS2065014" target="_blank" >IBS2065014: Elektronová litografie pro reliéfní submikrometrové difraktivní struktury</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2003

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Jemná mechanika a optika

ISSN

0447-6441

e-ISSN

—

Svazek periodika

48

Číslo periodika v rámci svazku

5

Stát vydavatele periodika

CZ - Česká republika

Počet stran výsledku

4

Strana od-do

138-141

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—